WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2008004472) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT DE VERRE POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS ET DISQUE MAGNÉTIQUE UTILISANT CE PROCÉDÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/004472    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/062868
Date de publication : 10.01.2008 Date de dépôt international : 27.06.2007
CIB :
G11B 5/84 (2006.01), C03C 23/00 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Opto, Inc. [JP/JP]; 2970, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928505 (JP) (Tous Sauf US).
KAWAI, Hideki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKATSUJI, Yukitoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAWADA, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAEKI, Shinichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAWAI, Hideki; (JP).
NAKATSUJI, Yukitoshi; (JP).
SAWADA, Hiroaki; (JP).
SAEKI, Shinichi; (JP)
Mandataire : SANO, Shizuo; Tenmabashi-Yachiyo Bldg. Bekkan 2-6, Tenmabashi-Kyomachi, Chuo-Ku Osaka-Shi, Osaka 5400032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-183097 03.07.2006 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM AND MAGNETIC DISC USING SUCH METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT DE VERRE POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS ET DISQUE MAGNÉTIQUE UTILISANT CE PROCÉDÉ
(JA) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法およびそれを用いる磁気ディスク
Abrégé : front page image
(EN)In a method for manufacturing a glass substrate for an information recording medium having SiO2 as a main component, an abrasive and foreign materials adhered on the substrate are surely removed without making a cleaning step complicated. The manufacturing method includes a step of bringing the surface of the substrate into contact with a liquid having a Si element elusion quantity within a range of 100-10,000ppb/mm2, after a polishing step but prior to starting a scrub cleaning step.
(FR)Dans un procédé de fabrication d'un substrat de verre pour support d'enregistrement d'informations, substrat dont le composant principal est SiO2, il est possible d'éliminer complètement des matières abrasives et étrangères ayant adhéré sur le substrat, sans étape de nettoyage compliquée. Le procédé de fabrication consiste à mettre la surface du substrat en contact avec un liquide ayant une vitesse d'élution de l'élément Si comprise entre 100 et 10,000 ppb/mm2, après une étape de polissage, mais avant de démarrer l'étape de désincrustation.
(JA) 基板に付着した研磨剤や異物を、洗浄工程を複雑化させることなく確実に除去するSiO2を主成分とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、研磨工程後、スクラブ洗浄工程開始前に、該基板の表面を、Si元素溶出量が100~10000ppb/mm2の範囲の液体と接触させることを含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)