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1. (WO2007149694) APPAREILS, SYSTÈMES ET PROCÉDÉS POUR LE NETTOYAGE RAPIDE D'ANNEAUX DE CONFINEMENT DE PLASMA AVEC UNE ÉROSION MINIMALE DES AUTRES PARTIES DE LA CHAMBRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/149694    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/070265
Date de publication : 27.12.2007 Date de dépôt international : 01.06.2007
CIB :
C23C 16/00 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538 (US) (Tous Sauf US).
HUDSON, Eric [US/GB]; (US) (US Seulement).
FISCHER, Andreas [DE/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : HUDSON, Eric; (US).
FISCHER, Andreas; (US)
Mandataire : GENCARELLA, Michael, L.; Martine Penilla & Gencarella, LLP, 710 Lakeway Drive, Suite 200, Sunnyvale, CA 94085 (US)
Données relatives à la priorité :
11/425,206 20.06.2006 US
Titre (EN) APPARATUSES, SYSTEMS AND METHODS FOR RAPID CLEANING OF PLASMA CONFINEMENT RINGS WITH MINIMAL EROSION OF OTHER CHAMBER PARTS
(FR) APPAREILS, SYSTÈMES ET PROCÉDÉS POUR LE NETTOYAGE RAPIDE D'ANNEAUX DE CONFINEMENT DE PLASMA AVEC UNE ÉROSION MINIMALE DES AUTRES PARTIES DE LA CHAMBRE
Abrégé : front page image
(EN)An apparatus used for rapid removal of polymer films from plasma confinement rings while minimizing erosion of other plasma etch chamber components is disclosed. The apparatus includes a center assembly, an electrode plate, a confinement ring stack, a first plasma source, and a second plasma source. The electrode plate is affixed to a surface of the center assembly with a channel defined along the external circumference therein. A first plasma source is disposed within the channel and along the external circumference of the center assembly, wherein the first plasma source is configured to direct a plasma to the inner circumferential surface of the confinement ring stack. A second plasma source located away from the first plasma source is configured to perform processing operations on a substrate within the etch chamber.
(FR)L'invention concerne un appareil utilisé pour retirer rapidement des films polymères d'anneaux de confinement de plasma tout en minimisant l'érosion des autres composants d'une chambre de gravure par plasma. L'appareil comprend un assemblage central, une plaque d'électrode, un empilement d'anneaux de confinement, une première source de plasma et une deuxième source de plasma. La plaque d'électrode est fixée à une surface de l'assemblage central, un canal y étant défini le long de la circonférence externe. Une première source de plasma est disposée à l'intérieur du canal et le long de la circonférence externe de l'assemblage central, la première source de plasma étant configurée pour diriger un plasma vers la surface circonférentielle interne de l'empilement d'anneaux de confinement. Une deuxième source de plasma située à l'écart de la première source de plasma est configurée pour effectuer des opérations de traitement sur un substrat à l'intérieur de la chambre de gravure.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)