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1. (WO2007149513) SYSTÈME DE PURGE DESTOCKAGE DE RÉTICULE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/149513    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/014428
Date de publication : 27.12.2007 Date de dépôt international : 19.06.2007
CIB :
B67C 3/02 (2006.01)
Déposants : ENTEGRIS, INC. [US/US]; 3500 Lyman Boulevard, Chaska, MN 55318 (US) (Tous Sauf US).
KISHKOVICH, Oleg, P. [US/US]; (US) (US Seulement).
GABARRE, Xavier [FR/SG]; (SG) (US Seulement).
GOODWIN, William, M. [US/US]; (US) (US Seulement).
LO, James [--/--]; (TW) (US Seulement).
SCOGGINS, Troy [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : KISHKOVICH, Oleg, P.; (US).
GABARRE, Xavier; (SG).
GOODWIN, William, M.; (US).
LO, James; (TW).
SCOGGINS, Troy; (US)
Mandataire : CHRISTENSEN, Douglas, J.; Patterson, Thuente, Skaar & Christensen, P.a., 4800 Ids Center, 80 South Eighth Street, Minneapolis, MN 55402-2100 (US)
Données relatives à la priorité :
60/814,824 19.06.2006 US
60/844,570 14.09.2006 US
60/903,488 26.02.2007 US
Titre (EN) SYSTEM FOR PURGING RETICLE STORAGE
(FR) SYSTÈME DE PURGE DESTOCKAGE DE RÉTICULE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a method, system, and components for protecting reticles and specifically for minimizing haze formation on reticles during storage and use. By substantially continually maintaining a purge in a storage housing having a reduced humidity level on reticles or by temporarily storing the reticle in a container in proximity to a desiccant or getter when not being purged, haze formation can be eliminated, minimized, or sufficiently controlled. Moreover, a filter media in the container may be positioned to be 'recharged' during the substantially continual purging of the reticle, a reduced desireable humidity level can be readily maintained in the reticle container when the container is not currently being purged. Additionally, the system of the invention can comprise an ionizer associated with the purge system. For example, the ionizer can be associated with at least one of the plurality of purge lines of the purge system. The system of the invention can also include a purge gas source connected to the purge system that comprises a source of CDA or extra CDA. The storage housing can comprise a plurality of shelves that each include a plurality of reticle storage receptacles.
(FR)La présente invention concerne un procédé, un système et des composants visant à protéger des réticules et, en particulier, à minimiser la formation d'un voile sur les réticules pendant le stockage et l'utilisation. En maintenant en continu une purge dans un boîtier de stockage à niveau d'humidité réduit sur les réticules ou par stockage temporaire du réticule dans un contenant à proximité d'un dessiccateur ou dégazeur lorsqu'il n'est pas purgé, la formation de voile peut être éliminée, minimisée ou contrôlée de façon suffisante. De plus, un milieu de filtration dans le contenant peut être positionné pour être « rechargé » pendant la purge continuelle du réticule, un niveau d'humidité désirable réduit peut être facilement maintenu dans le contenant de réticule lorsque le contenant n'est pas en cours de purge. De plus, l'invention peut comprendre un ioniseur associé au système de purge. Par exemple, l'ioniseur peut être associé avec au moins l'une des lignes de purge du système. L'invention peut également comprendre une source de gaz de purge connectée au système de purge qui comprend une source de CDA ou de CDA supplémentaire. Le boîtier de stockage peut comprendre plusieurs étages qui comprennent chacun plusieurs réceptacles de stockage de réticule.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)