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Paramétrages

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1. WO2007148868 - APPAREIL DE GÉNÉRATION À DISTANCE D'UN PLASMA À PRESSION ATMOSPHÉRIQUE PAR CONCENTRATION D'INDUCTION

Numéro de publication WO/2007/148868
Date de publication 27.12.2007
N° de la demande internationale PCT/KR2007/000967
Date du dépôt international 26.02.2007
CIB
H05H 1/32 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
HTECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24Production du plasma
26Torches à plasma
32utilisant un arc
CPC
H01J 37/32036
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32018Glow discharge
32036AC powered
H01J 37/32073
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32073Corona discharge
H01J 37/32449
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
3244Gas supply means
32449Gas control, e.g. control of the gas flow
H01J 37/32458
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
32458Vessel
H01J 37/32532
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
32532Electrodes
H05H 1/24
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
Déposants
  • UION CO, LTD. [KR/KR]; #407, 131-14, Nokbeon-Dong Eunpyeong-Gu Seoul 122-832, KR (AllExceptUS)
  • SONG, Seok Kyun [KR/US]; US (UsOnly)
Inventeurs
  • SONG, Seok Kyun; US
Mandataires
  • LEE, Hyung Kyu; #215, 2f Hana Apartel(1st), 265-1 Dorim1-dong, Yeongdeungpo-gu Seoul 150-081, KR
Données relatives à la priorité
10-2006-005517120.06.2006KR
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt coréen (KO)
États désignés
Titre
(EN) INDUCTION CONCENTRATION REMOTE ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA GENERATING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE GÉNÉRATION À DISTANCE D'UN PLASMA À PRESSION ATMOSPHÉRIQUE PAR CONCENTRATION D'INDUCTION
Abrégé
(EN)
The present invention relates, in general, to an induction concentration remote atmospheric pressure plasma generating apparatus, and more particularly, to an induction concentration remote atmospheric pressure plasma generating apparatus in which induction electrodes, discharge electrodes and a ground electrode are used, so that a plasma can be generated in a plasma cell including several metal discharge electrodes by using one power supply device while not generating arc between the metal electrodes, and a high-density plasma is generated at local regions due to a discharge between the metal electrodes and is thus spouted to the surface of a sample by means of the pressure of a working gas. Thus, a plasma is not generated in unnecessary regions. If the present invention is applied, there are advantages in that flat panel displays, semiconductor samples and so on of a large area can be processed efficiently, and any kinds of materials, such as insulators, conductors and semiconductors, can be cleaned and undergo etching, photo resistor strip and surface-reforming processes regardless of the sample types.
(FR)
L'invention concerne de manière générale un appareil de génération à distance de plasma à pression atmosphérique par concentration d'induction et plus particulièrement un appareil de génération à distance de plasma à pression atmosphérique par concentration d'induction dans lequel des électrodes d'induction, des électrodes de précipitation et une électrode de terre sont utilisées de manière à ce qu'un plasma puisse être généré dans une cellule à plasma qui comprend plusieurs électrodes de précipitation en utilisant un dispositif d'alimentation en tension électrique sans générer d'arc entre les électrodes métalliques. Un plasma à densité importante est généré en des régions localisées à cause d'une décharge entre les électrodes métalliques et est donc chargé à la surface d'un échantillon au moyen de la pression d'un gaz de travail. Donc, un plasma n'est pas généré dans des régions où ce n'est pas nécessaire. Les avantages de l'application de la présente invention sont que des écrans de visualisation à écran plat, des échantillons semi-conducteurs, etc. de taille plus ou moins grande peuvent être traités efficacement et tout type de matériau, tel que des isolants, des conducteurs et des semi-conducteurs peut être nettoyé et subir des opérations d'attaque à l'acide, l'arrachage d'un photorésist et de refaçonnage de la surface quel que soit le type d'échantillon.
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