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1. (WO2007148558) COMPOSITION DURCISSABLE PAR RAYONNEMENT ACTIF, PROCÉDÉ DESTINÉ À DURCIR CETTE COMPOSITION, COMPOSITION D'ENCRE DURCISSABLE PAR RAYONNEMENT ACTIF, PROCÉDÉ DE FORMATION D'IMAGE ET COMPOSÉ ASSOCIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/148558    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/061797
Date de publication : 27.12.2007 Date de dépôt international : 12.06.2007
CIB :
C08G 65/18 (2006.01), C07C 43/20 (2006.01), C07C 43/21 (2006.01), C07C 43/215 (2006.01), C07C 43/225 (2006.01), C07C 69/16 (2006.01), C07D 295/18 (2006.01), C08F 2/50 (2006.01), C08G 59/18 (2006.01), C09K 3/00 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. [JP/JP]; 1, Sakura-machi, Hino-shi Tokyo 1918511 (JP) (Tous Sauf US).
KURATA, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OOKUBO, Kimihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKABAYASHI, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KURATA, Takeshi; (JP).
OOKUBO, Kimihiko; (JP).
TAKABAYASHI, Toshiyuki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-169815 20.06.2006 JP
Titre (EN) ACTIVE RAY CURABLE COMPOSITION, METHOD FOR CURING THE SAME, ACTIVE RAY CURABLE INK COMPOSITION, IMAGE FORMING METHOD, AND COMPOUND
(FR) COMPOSITION DURCISSABLE PAR RAYONNEMENT ACTIF, PROCÉDÉ DESTINÉ À DURCIR CETTE COMPOSITION, COMPOSITION D'ENCRE DURCISSABLE PAR RAYONNEMENT ACTIF, PROCÉDÉ DE FORMATION D'IMAGE ET COMPOSÉ ASSOCIÉ
(JA) 活性光線硬化型組成物、その硬化方法、活性光線硬化型インク組成物、画像形成方法、及び化合物
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are an active ray curable composition having high sensitivity and good storage stability, a method for curing such an active ray curable composition, and a novel 9,10-dietherified anthracene compound. The active ray curable composition is characterized by containing at least one compound represented by the general formula (1) below, at least one cationically polymerizable compound, and at least one compound which generates an acid when irradiated with an active ray. [chemical formula 1] (1) [In the formula, R1-R8 independently represent a hydrogen atom or a substituent, and at least one of R1-R8 represents a C5-C10 alkyl group or cycloalkyl group; and R9 and R10 independently represent an alkyl group having 1-30 carbon atoms or the like.]
(FR)L'invention concerne une composition durcissable par rayonnement actif présentant une haute sensibilité et une bonne stabilité de stockage. L'invention concerne également un procédé visant à faire durcir une telle composition durcissable par rayonnement actif, et un nouveau composé d'anthracène 9,10-diéthérifié. La composition durcissable par rayonnement actif de l'invention est caractérisée en ce qu'elle contient au moins un composé de formule [formule chimique 1] (1), au moins un composé cationiquement polymérisable, et au moins un composé qui génère un acide lorsqu'il est irradié par un rayonnement actif. Dans la formule (1), R1 à R8 désignent indépendamment un atome d'hydrogène ou un substituant, et au moins un élément compris entre R1 et R8 désigne un groupe alkyle C5-C10 ou un groupe cycloalkyle; et R9 et R10 désignent indépendamment un groupe alkyle présentant 1 à 30 atomes de carbone ou analogues.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)