WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2007148492) COMPOSITION DE RÉSINE POSITIVE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/148492    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/060253
Date de publication : 27.12.2007 Date de dépôt international : 18.05.2007
CIB :
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (Tous Sauf US).
TAKESHITA, Masaru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAKESHITA, Masaru; (JP)
Mandataire : TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu Chuo-ku Tokyo 1048453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-173919 23.06.2006 JP
Titre (EN) POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE POSITIVE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSINE
(JA) ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)A positive resist composition comprising a resin ingredient (A) and an acid generator ingredient (B), characterized in that the ingredient (A) has a structural unit (a1) derived from an acrylic ester containing an acid-dissociable dissolution-inhibitive group of the tertiary alkyl ester type containing an aliphatic monocyclic group and/or an acid-dissociable dissolution-inhibitive group of the aliphatic branched, tertiary alkyl ester type, and that the ingredient (B) comprises an acid generator (B1) having a cationic moiety represented by the following formula (b'-1). [Chemical formula 1] (b'-1) [In the formula, R1 and R2 each independently represents optionally substituted naphthyl and R3 represents alkyl or aryl (provided that naphthyl is excluded).]
(FR)L'invention concerne une composition de résine positive comprenant un ingrédient de résine (A) et un ingrédient générateur d'acide (B). Cette composition est caractérisée en ce que l'ingrédient (A) comporte un motif constitutif (a1) dérivé d'un ester acrylique contenant un groupe inhibiteur de dissolution dissociable par un acide de type alkylester tertiaire contenant un groupe monocyclique aliphatique et/ou un groupe inhibiteur de dissolution dissociable par un acide de type alkylester tertiaire ramifié aliphatique et en ce que l'ingrédient (B) comprend un générateur d'acide (B1) comportant un groupe fonctionnel cationique représenté par la formule (b'-1), dans laquelle R1 et R2 représentent indépendamment un groupe naphtyle éventuellement substitué et R3 représente un groupe alkyle ou aryle (naphtyle étant exclu).
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)