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Paramétrages

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1. WO2007146395 - APPAREIL À FAISCEAU IONIQUE ET PROCÉDÉ EMPLOYANT UN BALAYAGE MAGNÉTIQUE

Numéro de publication WO/2007/146395
Date de publication 21.12.2007
N° de la demande internationale PCT/US2007/013985
Date du dépôt international 13.06.2007
CIB
G21K 5/10 2006.01
GPHYSIQUE
21PHYSIQUE NUCLÉAIRE; TECHNIQUE NUCLÉAIRE
KTECHNIQUES NON PRÉVUES AILLEURS POUR MANIPULER DES PARTICULES OU DES RAYONNEMENTS IONISANTS; DISPOSITIFS D'IRRADIATION; MICROSCOPES À RAYONS GAMMA OU À RAYONS X
5Dispositifs d'irradiation
10pourvus de dispositions permettant un mouvement relatif entre la source du rayonnement et l'objet à irradier
CPC
H01J 2237/0044
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
004Charge control of objects or beams
0041Neutralising arrangements
0044of objects being observed or treated
H01J 2237/0455
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
04Means for controlling the discharge
045Diaphragms
0455with variable aperture
H01J 2237/047
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
04Means for controlling the discharge
047Changing particle velocity
H01J 2237/0492
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
04Means for controlling the discharge
049Focusing means
0492Lens systems
H01J 2237/057
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
05Arrangements for energy or mass analysis
057Energy or mass filtering
H01J 2237/14
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
10Lenses
14magnetic
Déposants
  • SEMEQUIP, INC. [US/US]; 34 Sullivan Road Billerica, MA 01862, US (AllExceptUS)
  • GLAVISH, Hilton, F. [US/US]; US (UsOnly)
  • JACOBSON, Dale, Conrad [US/US]; US (UsOnly)
  • HORSKY, Thomas, N. [US/US]; US (UsOnly)
  • HAHTO, Sami, K. [FI/US]; US (UsOnly)
  • HAMAMOTO, Nariaki [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • NAITO, Masao [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • NAGAI, Nobuo [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • GLAVISH, Hilton, F.; US
  • JACOBSON, Dale, Conrad; US
  • HORSKY, Thomas, N.; US
  • HAHTO, Sami, K.; US
  • HAMAMOTO, Nariaki; JP
  • NAITO, Masao; JP
  • NAGAI, Nobuo; JP
Mandataires
  • PANIAGUAS, John, S.; Katten Muchin Rosenman LLP 1025 Thomas Jefferson Street, N.W. East Lobby: Suite 700 Washington, DC 20007, US
Données relatives à la priorité
60/813,43113.06.2006US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) ION BEAM APPARATUS AND METHOD EMPLOYING MAGNETIC SCANNING
(FR) APPAREIL À FAISCEAU IONIQUE ET PROCÉDÉ EMPLOYANT UN BALAYAGE MAGNÉTIQUE
Abrégé
(EN)
A multipurpose ion implanter beam line configuration comprising a mass analyzer magnet followed by a magnetic scanner and magnetic collimator combination that introduce bends to the beam path, the beam line constructed for enabling Implantation of common monatomic dopant ion species cluster ions, the beam line configuration having a mass analyzer magnet defining a pole gap of substantial width between ferromagnetic poles of the magnet and a mass selection aperture, the analyzer magnet sized to accept an ion beam from a slot-form ion source extraction aperture of at least about 80 mm height and at least about 7 mm width, and to produce dispersion at the mass selection aperture in a plane corresponding to the width of the beam, the mass selection aperture capable of being set to a mass selection width sized to select a beam of the cluster ions of the same dopant species but incrementally differing molecular weights.
(FR)
L'invention concerne une configuration de circuit à faisceau d'implantation ionique multi-usage contenant un aimant analyseur de masse suivi d'une combinaison de scanner magnétique et de collimateur magnétique pour introduire des coudes dans le trajet de faisceau, le circuit de faisceau construit pour permettre l'implantation de grappes d'ions d'espèces d'ion dopantes monoatomiques communes, la configuration du circuit de faisceau présentant un aimant analyseur de masse définissant un entrefer de pôle de largeur sensible entre les pôles ferromagnétiques de l'aimant et une ouverture de sélection de masse, l'aimant analyseur étant dimensionné pour accepter un faisceau ionique à partir d'une ouverture d'extraction de source ionique en forme de fente d'au moins 80 mm de haut environ et au moins 7 mm de large environ, et pour obtenir une dispersion au niveau de l'ouverture de sélection de masse dans un plan correspondant à la largeur du faisceau, l'ouverture de sélection de masse pouvant prendre une largeur de sélection de masse dimensionnée pour sélectionner un faisceau des ions en grappes de la même espèce dopante mais avec des poids moléculaire variant de façon incrémentale, l'ouverture de sélection de masse pouvant également prendre une largeur de sélection de masse sensiblement plus faible et l'aimant analyseur présentant une résolution au niveau de l'ouverture de sélection de masse suffisante pour permettre la sélection d'un faisceau d'ions dopants monoatomiques sensiblement d'un même poids atomique ou moléculaire, le scanner magnétique et le collimateur magnétique étant construits pour couder de manière successive le faisceau ionique dans le même sens, qui est opposé à celui du coude introduit par l'aimant analyseur du circuit de faisceau.
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