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Paramétrages

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1. WO2007145072 - APPAREIL DE SUPPORT

Numéro de publication WO/2007/145072
Date de publication 21.12.2007
N° de la demande internationale PCT/JP2007/060820
Date du dépôt international 28.05.2007
CIB
G03F 7/22 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
22Exposition successive avec le même motif lumineux de différentes zones de la même surface
CPC
G03F 7/70791
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70691Handling of masks or wafers
70791Large workpieces, e.g. in the shape of web or polygon
Déposants
  • 日本精工株式会社 NSK Ltd. [JP/JP]; 〒1418560 東京都品川区大崎一丁目6番3号 Tokyo 6-3, Ohsaki 1-chome Shinagawa-ku Tokyo 1418560, JP (AllExceptUS)
  • 佐藤 俊徳 SATOU, Toshinori; null (UsOnly)
  • 佐治 伸仁 SAJI, Nobuhito; null (UsOnly)
  • 中村 剛 NAKAMURA, Tsuyoshi; null (UsOnly)
Inventeurs
  • 佐藤 俊徳 SATOU, Toshinori; null
  • 佐治 伸仁 SAJI, Nobuhito; null
  • 中村 剛 NAKAMURA, Tsuyoshi; null
Mandataires
  • 小栗 昌平 OGURI, Shohei; 〒1050003 東京都港区西新橋一丁目7番13号 栄光特許事務所 Tokyo Eikoh Patent Office 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome Minato-ku Tokyo 1050003, JP
Données relatives à la priorité
2006-16465814.06.2006JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) SUPPORTING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE SUPPORT
(JA) 支持装置
Abrégé
(EN)
In a supporting apparatus (40) to be used for an exposure apparatus, an exhaust groove (42b) on a supporting plane (42a) is inclined from an exposure region so that the groove is not parallel to a scanning direction. Thus, effects of return light, which is of a parallel luminous flux (20) and reflected by the exhaust groove (42b), do not appear on a work substrate (1A) in stripes, and stable uniform exposure can be performed.
(FR)
La présente invention concerne un appareil de support (40) à utiliser pour un appareil d'exposition. Ledit appareil de support (40) comprend une rainure d'écoulement (42b) sur un plan de support (42a) qui est inclinée à partir d'une région d'exposition de sorte que la rainure n'est pas parallèle à une direction de balayage. Ainsi, des effets lumière retournée, qui est due à un flux lumineux parallèle (20) et reflétée par la rainure d'écoulement (42b), n'apparaissent pas sur un substrat de travail (1A) en bandes, et on peut obtenir une exposition stable uniforme.
(JA)
 露光装置に用いられる支持装置40は、の支持面42aにおける排気溝42bを、走査方向と平行にならない様に露光領域に対して斜めに傾けている。これにより、平行光束20の排気溝42bで反射した戻り光の影響が、筋状になってワーク基板1Aに現れず、安定した均一な露光が可能になる。
Également publié en tant que
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