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1. (WO2007142350) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE FORMATION DE MOTIFS, PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/142350    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/061709
Date de publication : 13.12.2007 Date de dépôt international : 11.06.2007
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
HIRUKAWA, Shigeru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OWA, Soichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HIRUKAWA, Shigeru; (JP).
OWA, Soichi; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO. Karakida Center Bldg., 1-53-9 Karakida, Tama-shi Tokyo 206-0035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-160886 09.06.2006 JP
Titre (EN) PATTERN FORMATION METHOD, PATTERN FORMATION DEVICE, EXPOSURE METHOD, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE FORMATION DE MOTIFS, PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIFS
(JA) パターン形成方法及びパターン形成装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)According to pattern design data and pattern combination information stored in a memory (33), a drive system (30) decides a basic pattern combination (types of basic patterns to be generated and the number of pulses of each of the basic patterns). In accordance with the decision result, each of micro mirrors in a variable molding mask (VM) is individually controlled so that a plurality of basic patterns are successively generated according to the respective numbers of pulses. Each of the basic patterns generated by the variable molding mask (VM) is successively focused on a plate (P) via a projection optical system (PL). Thus, a pattern of a desired line width based on the design data is accurately formed at a desired position on an object.
(FR)Selon l'invention, un système de commande (30) détermine, en fonction de données de conception de motifs et d'informations de combinaison de motifs stockées dans une mémoire (33), une combinaison de motifs de base (types de motifs de base devant être générés et nombre d'impulsions de chacun des motifs de base). En accord avec le résultat de ladite détermination, chacun des micromiroirs d'un masque de moulage variable (VM) est commandé individuellement de manière que soit générée successivement une pluralité de motifs de base d'après les nombres respectifs d'impulsions. Chaque motif de base généré par le masque de moulage variable (VM) est dirigé successivement sur une plaque (P) par l'intermédiaire d'un système optique de projection (PL). Ledit procédé permet de former avec précision, à une position désirée sur un objet, un motif présentant une largeur de ligne désirée en fonction des données de conception.
(JA) 駆動系(30)により、パターンの設計データとメモリ(33)に格納されているパターン組み合わせ情報とに基づいて、基本パターンの組み合わせ(発生させる基本パターンの種類と各基本パターンのパルス数)が決定される。そして、その決定結果に基づいて、複数の基本パターンがそれぞれのパルス数に応じて順次生成されるように可変成形マスク(VM)の各マイクロミラーが個別に制御され、可変成形マスク(VM)で生成された各基本パターンは、投影光学系(PL)を介して、プレート(P)上に順次結像される。これにより、設計データに対応した所望の線幅のパターンが物体上の所望の位置に精度良く形成される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)