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1. WO2007142333 - CIBLE DE PULVÉRISATION POUR LA FORMATION D'UN FILM DE PROTECTION POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT OPTIQUE HAUTE RÉSISTANCE

Numéro de publication WO/2007/142333
Date de publication 13.12.2007
N° de la demande internationale PCT/JP2007/061643
Date du dépôt international 08.06.2007
CIB
C23C 14/34 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22caractérisé par le procédé de revêtement
34Pulvérisation cathodique
C04B 35/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
04CIMENTS; BÉTON; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES
BCHAUX; MAGNÉSIE; SCORIES; CIMENTS; LEURS COMPOSITIONS, p.ex. MORTIERS, BÉTON OU MATÉRIAUX DE CONSTRUCTION SIMILAIRES; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES; TRAITEMENT DE LA PIERRE NATURELLE
35Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques
C04B 35/10 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
04CIMENTS; BÉTON; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES
BCHAUX; MAGNÉSIE; SCORIES; CIMENTS; LEURS COMPOSITIONS, p.ex. MORTIERS, BÉTON OU MATÉRIAUX DE CONSTRUCTION SIMILAIRES; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES; TRAITEMENT DE LA PIERRE NATURELLE
35Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques
01à base d'oxydes
10à base d'oxyde d'aluminium
C04B 35/48 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
04CIMENTS; BÉTON; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES
BCHAUX; MAGNÉSIE; SCORIES; CIMENTS; LEURS COMPOSITIONS, p.ex. MORTIERS, BÉTON OU MATÉRIAUX DE CONSTRUCTION SIMILAIRES; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES; TRAITEMENT DE LA PIERRE NATURELLE
35Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques
01à base d'oxydes
48à base d'oxydes de zirconium ou d'hafnium ou de zirconates ou d'hafnates
C04B 35/50 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
04CIMENTS; BÉTON; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES
BCHAUX; MAGNÉSIE; SCORIES; CIMENTS; LEURS COMPOSITIONS, p.ex. MORTIERS, BÉTON OU MATÉRIAUX DE CONSTRUCTION SIMILAIRES; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES; TRAITEMENT DE LA PIERRE NATURELLE
35Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques
50à base de composés de terres rares
G11B 7/254 2006.01
GPHYSIQUE
11ENREGISTREMENT DE L'INFORMATION
BENREGISTREMENT DE L'INFORMATION BASÉ SUR UN MOUVEMENT RELATIF ENTRE LE SUPPORT D'ENREGISTREMENT ET LE TRANSDUCTEUR
7Enregistrement ou reproduction par des moyens optiques, p.ex. enregistrement utilisant un faisceau thermique de rayonnement optique, reproduction utilisant un faisceau optique à puissance réduite; Supports d'enregistrement correspondants
24Supports d’enregistrement caractérisés par la forme, la structure ou les propriétés physiques, ou par le choix du matériau
241Supports d’enregistrement caractérisés par le choix du matériau
252des couches autres que les couches d'enregistrement
254des couches supérieures de protection
CPC
C04B 2235/3225
CCHEMISTRY; METALLURGY
04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE
2235Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
3224Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
3225Yttrium oxide or oxide-forming salts thereof
C04B 2235/3227
CCHEMISTRY; METALLURGY
04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE
2235Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
3224Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
3227Lanthanum oxide or oxide-forming salts thereof
C04B 2235/3244
CCHEMISTRY; METALLURGY
04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE
2235Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
3244Zirconium oxides, zirconates, hafnium oxides, hafnates, or oxide-forming salts thereof
C04B 2235/3246
CCHEMISTRY; METALLURGY
04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE
2235Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
3244Zirconium oxides, zirconates, hafnium oxides, hafnates, or oxide-forming salts thereof
3246Stabilised zirconias, e.g. YSZ or cerium stabilised zirconia
C04B 2235/3286
CCHEMISTRY; METALLURGY
04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE
2235Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
3286Gallium oxides, gallates, indium oxides, indates, thallium oxides, thallates or oxide forming salts thereof, e.g. zinc gallate
C04B 2235/3418
CCHEMISTRY; METALLURGY
04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE
2235Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
34Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
3418Silicon oxide, silicic acids, or oxide forming salts thereof, e.g. silica sol, fused silica, silica fume, cristobalite, quartz or flint
Déposants
  • 三菱マテリアル株式会社 MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 〒1008117 東京都千代田区大手町一丁目5番1号 Tokyo 5-1, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117, JP (AllExceptUS)
  • 張 守斌 ZHANG, Shoubin [CN/JP]; JP (UsOnly)
  • 佐々木 勇人 SASAKI, Hayato [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 小見山 昌三 KOMIYAMA, Syozou [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 三島 昭史 MISHIMA, Akifumi [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 張 守斌 ZHANG, Shoubin; JP
  • 佐々木 勇人 SASAKI, Hayato; JP
  • 小見山 昌三 KOMIYAMA, Syozou; JP
  • 三島 昭史 MISHIMA, Akifumi; JP
Mandataires
  • 志賀 正武 SHIGA, Masatake; 〒1048453 東京都中央区八重洲2丁目3番1号 Tokyo 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 1048453, JP
Données relatives à la priorité
2006-15930308.06.2006JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) SPUTTERING TARGET FOR FORMING HIGH STRENGTH OPTICAL RECORDING MEDIUM PROTECTION FILM
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION POUR LA FORMATION D'UN FILM DE PROTECTION POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT OPTIQUE HAUTE RÉSISTANCE
(JA) 高強度光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット
Abrégé
(EN)
A sputtering target for forming a high strength optical recording medium protection film is provided by sintering a mixed powdery material having a formula composition containing, in mol %, a zirconium oxide or a hafnium oxide of 10-70%, a silicon dioxide of 50% or less (not including 0%), and yttrium oxide of 0.1-8.4%, if necessary, and aluminum oxide, lanthanum oxide or indium oxide and an unavoidable impurities for the rest. A target base material has a structure wherein a composite oxide phase having a composition of Al6Si2O13 or La2SiO5 or In2Si2O7 is generated.
(FR)
L'invention concerne une cible de pulvérisation pour former un film de protection pour support d'enregistrement optique haute résistance obtenu par frittage d'un matériau mixte en poudre dont la composition de la formule comprend, en % molaire, de 10 à 70 % d'oxyde de zirconium, 50 % ou moins de dioxyde de silicium (mais pas 0 %), et de 0,1 à 8,4 % d'oxyde d'yttrium, au besoin un oxyde d'aluminium, un oxyde de lanthane ou un oxyde d'indium et le reste étant formé d'impuretés inévitables. Un matériau de base cible a une structure où est générée la phase oxyde composite avec une composition d'Al6Si2O13, La2SiO5 ou In2Si2O7.
(JA)
 この高強度光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲットは、モル%で、酸化ジルコニウムまたは酸化ハフニウム:10~70%、二酸化ケイ素:50%以下(0%を含まず)を含有し、必要に応じて酸化イットリウム:0.1~8.4%を含有し、残部:酸化アルミニウム、酸化ランタンまたは酸化インジウムおよび不可避不純物からなる配合組成を有する混合粉末を焼結した光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲットにおいて、ターゲット素地中にAlSi13、LaSiOまたはInSiの組成を有する複合酸化物相が生成している組織を有する。
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