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Paramétrages

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1. WO2007141185 - HOMOGÉNÉISATEUR À INTERFÉRENCE RÉDUITE

Numéro de publication WO/2007/141185
Date de publication 13.12.2007
N° de la demande internationale PCT/EP2007/055323
Date du dépôt international 31.05.2007
CIB
G02B 27/48 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
27Systèmes ou appareils optiques non prévus dans aucun des groupes G02B1/-G02B26/117
48Systèmes optiques utilisant la granulation produite par laser
G02B 27/09 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
27Systèmes ou appareils optiques non prévus dans aucun des groupes G02B1/-G02B26/117
09Mise en forme du faisceau, p.ex. changement de la section transversale, non prévue ailleurs
H01S 3/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
SDISPOSITIFS UTILISANT LE PROCÉDÉ D'AMPLIFICATION DE LA LUMIÈRE PAR ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT POUR AMPLIFIER OU GÉNÉRER DE LA LUMIÈRE; DISPOSITIFS UTILISANT L’ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT ÉLECTROMAGNÉTIQUE DANS DES GAMMES D’ONDES AUTRES QU'OPTIQUES
3Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, le visible ou l’ultraviolet
B23K 26/06 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
23MACHINES-OUTILS; TRAVAIL DES MÉTAUX NON PRÉVU AILLEURS
KBRASAGE OU DÉBRASAGE; SOUDAGE; REVÊTEMENT OU PLACAGE PAR BRASAGE OU SOUDAGE; DÉCOUPAGE PAR CHAUFFAGE LOCALISÉ, p.ex. DÉCOUPAGE AU CHALUMEAU; TRAVAIL PAR RAYON LASER
26Travail par rayon laser, p.ex. soudage, découpage ou perçage 
02Mise en place ou surveillance de la pièce à travailler, p.ex. par rapport au point d'impact; Alignement, pointage ou focalisation du faisceau laser
06Mise en forme du faisceau laser, p.ex. à l’aide de masques ou de foyers multiples
CPC
B23K 26/0604
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
26Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
0604by a combination of beams
B23K 26/0613
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
26Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
0604by a combination of beams
0613having a common axis
G02B 27/0927
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
0927Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
G02B 27/0961
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
0938Using specific optical elements
095Refractive optical elements
0955Lenses
0961Lens arrays
G03F 7/70583
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70483Information management, control, testing, and wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
7055Exposure light control, in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control, light interruption
70583Speckle reduction, e.g. coherence control, amplitude/wavefront splitting
H01S 3/005
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
3Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
005Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
Déposants
  • CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22 Oberkochen 73447, DE (AllExceptUS)
  • EGGER, Rafael [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • MÜNZ, Holger [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventeurs
  • EGGER, Rafael; DE
  • MÜNZ, Holger; DE
Mandataires
  • BRAUNGER, Dieter; c/o Carl Zeiss AG Patentabteilung 73447 Oberkochen, DE
Données relatives à la priorité
60/812,22009.06.2006US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) HOMOGENIZER WITH REDUCED INTERFERENCE
(FR) HOMOGÉNÉISATEUR À INTERFÉRENCE RÉDUITE
Abrégé
(EN)
The invention relates to a method for creating a target intensity distribution (20) in a target field (3) from a first input light beam (4) propagating in a first propagation direction and a second input light beam (5), whereby said first input light beam (4) and said second input light beam (5) entering a light entrance surface (6a, 6b) of a cylindrical lens array (1a) of a homogenizer. According to the invention said second input light beam (5) propagates in a second propagation direction differing from said first propagation direction. The invention further relates to an optical system for creating a target intensity distribution (20) in a target field (3) comprising: a first light source for generating a first input light beam (4) and a second light source for generating a second input light beam (5), or a single light source for generating a light beam and a beam splitter for splitting said light beam into said first input light beam and said second input light beam, a first directing device for directing said first input light beam (4) to propagate in a first propagation direction and a ho mogenizer having a cylindrical lens array (1a) with a light entrance surface (6a, 6b) for being entered by said first input light beam (4) and said second input light beam (5). According to the invention there exists a second directing device for directing said second input light beam (5) propagating in a second propagation direction differing from said first propagation direction when entering said light entrance surface (6a, 6b).
(FR)
L'invention concerne un procédé pour créer une distribution d'intensité cible (20) dans un champ cible (3) à partir d'un premier faisceau lumineux d'entrée (4) se propageant dans une première direction de propagation et un second faisceau lumineux d'entrée (5), ledit premier faisceau lumineux d'entrée (4) et ledit second faisceau lumineux d'entrée (5) pénétrant dans une première surface d'entrée de la lumière (6a, 6b) d'un réseau de lentilles circulaires (1a) d'un homogénéisateur. Selon l'invention, ledit second faisceau lumineux d'entrée (5) se propage dans une seconde direction de propagation différente de ladite première direction de propagation. L'invention concerne en outre un système optique pour créer une distribution d'intensité cible (20) dans un champ cible (3) comprenant : une première source lumineuse pour générer un premier faisceau lumineux d'entrée (4) et une seconde source lumineuse pour générer un second faisceau lumineux d'entrée (5) ou une source lumineuse unique pour générer un faisceau lumineux et un séparateur de faisceau pour séparer ledit faisceau lumineux en ledit premier faisceau lumineux d'entrée et ledit second faisceau lumineux d'entrée, un premier dispositif de direction pour diriger ledit premier faisceau lumineux d'entrée (4) afin qu'il se propage dans une première direction de propagation et un homogénéisateur comportant un réseau de lentilles cylindriques (1a) avec une surface d'entrée de la lumière (6a, 6b) pour qu'y entrent le premier faisceau lumineux d'entrée (4) et le second faisceau lumineux d'entrée (5). Selon l'invention, il existe un second dispositif de direction pour diriger ledit second faisceau lumineux d'entrée (5) pour qu'il se propage dans une seconde direction de propagation différente de ladite première direction de propagation quand il entre dans ladite surface d'entrée de la lumière (6a, 6b).
Également publié en tant que
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