Traitement en cours

Veuillez attendre...

PATENTSCOPE sera indisponible durant quelques heures pour des raisons de maintenance le dimanche 05.04.2020 à 10:00 AM CEST
Paramétrages

Paramétrages

1. WO2007140663 - SYSTÈME OPTIQUE DE PROJECTION GRAND CHAMP ÀGROSSISSEMENT UNITAIRE

Numéro de publication WO/2007/140663
Date de publication 13.12.2007
N° de la demande internationale PCT/CN2006/003271
Date du dépôt international 04.12.2006
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
G02B 17/08 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
17Systèmes avec surfaces réfléchissantes, avec ou sans éléments de réfraction
08Systèmes catadioptriques
CPC
G02B 13/26
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
13Optical objectives specially designed for the purposes specified below
24for reproducing or copying at short object distances
26for reproducing with unit magnification
G02B 17/08
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
17Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
08Catadioptric systems
G03F 7/70225
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70225Catadioptric systems, i.e. documents describing optical design aspect details
G03F 7/70791
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70691Handling of masks or wafers
70791Large workpieces, e.g. in the shape of web or polygon
Déposants
  • SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD. [CN/CN]; No. 1525 Zhangdong Road Zhangjiang High-Tech Park Shanghai 201203, CN (AllExceptUS)
  • LI, Tiejun [CN/CN]; CN (UsOnly)
  • HUANG, Ling [CN/CN]; CN (UsOnly)
  • WEI, Jun [CN/CN]; CN (UsOnly)
Inventeurs
  • LI, Tiejun; CN
  • HUANG, Ling; CN
  • WEI, Jun; CN
Mandataires
  • SHANGHAI ZHI XIN PATENT AGENT LTD.; 26/F, Zhijun Building 1223 Xie Tu Rd. Shanghai 200032, CN
Données relatives à la priorité
200610027264.102.06.2006CN
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) LARGE-FIELD UNIT-MAGNIFICATION PROJECTION OPTICAL SYSTEM
(FR) SYSTÈME OPTIQUE DE PROJECTION GRAND CHAMP ÀGROSSISSEMENT UNITAIRE
Abrégé
(EN)
A large-field unit-magnification projection optical system (200) includes an optical axis (A2), a spherical concave mirror (Ml), a lens group with positive refracting power arranged adjacent the mirror with an air space therebetween, and a pair of prisms (P 1, P2) each laving respective first and second surface. The lens group includes a first plano-convex lens (El), a negative meniscus lens (E2) adjacent the plano-convex lens, a positive lens (E3) adjacent the negative meniscus lens, a negative double-convex lens (E4) spaced apart far from the positive lens, and a second plano-convex lens (ES). The second surface of the prism is arranged adjacent the flat surface of the plano-convex lens element on opposite sides of the optical axis, and the first surfaces of the prisms are arranged adjacent object planes and image plane, respectively. In this projection optical system, the object plane is parallel to the image plane.
(FR)
Système optique de projection grand champ à grossissement unitaire (200) comprenant un axe optique (A2), un miroir sphérique concave (M1) et un groupe de lentilles à puissance de réfraction positive placé à côté du miroir et séparé de celu-cii par un espace d'air, et une paire de prismes (P1, P2) ayant chacun une première et une seconde surface respective. Le groupe de lentilles comprend une première lentille plan-convexe (E1), une lentille ménisque négative (E2) adjacente à la lentille plan-convexe, une lentille positive (E3) adjacente à la lentille ménisque négative, une lentille biconvexe négative (E4) placée à grande distance de la lentille positive, et une seconde lentille plan-convexe (ES). La seconde surface du prisme est placée adjacente à la surface plane de l'élément de lentilles plan-convexe sur des côtés opposés de l'axe optique et les premières surfaces des prismes sont placées respectivement adjacentes aux plans objets et au plan image. Dans ce système optique de projection, le plan objet est parallèle au plan image.
Également publié en tant que
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international