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1. (WO2007138172) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE PURIFICATION D'ÉCOULEMENT DE MATIÈRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/138172    N° de la demande internationale :    PCT/FI2007/050317
Date de publication : 06.12.2007 Date de dépôt international : 31.05.2007
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    18.03.2008    
CIB :
A61L 9/20 (2006.01), H01J 61/42 (2006.01), B01J 19/12 (2006.01), B01D 53/34 (2006.01), C02F 1/32 (2006.01)
Déposants : BIOZONE SCIENTIFIC INTERNATIONAL OY [FI/FI]; Linnoitustie 4, FI-02600 Espoo (FI) (Tous Sauf US).
TÖRNKVIST, Niklas [FI/FI]; (FI) (US Seulement).
AHOLA, Ari [FI/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : TÖRNKVIST, Niklas; (FI).
AHOLA, Ari; (US)
Mandataire : BORENIUS & CO OY AB; Tallberginkatu 2 A, FI-00180 Helsinki (FI)
Données relatives à la priorité :
20065367 31.05.2006 FI
Titre (EN) AN APPARATUS AND A METHOD FOR PURIFYING A MATERIAL FLOW
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE PURIFICATION D'ÉCOULEMENT DE MATIÈRE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to an apparatus (3-40, 4-40, 5-40) and a method for purifying a material flow (4-35, 4-36, 5-35, 5-36), particularly air, gas or liquid. It comprises a first source of radiation in form of a lamp (3-50, 4-50, 5-50) generating a first UV radiation containing at least one of wavelengths of approximately 187 nm and 254 nm, and a housing surrounding the lamp (3-50, 4-50, 5-50) and confining a flow path between the lamp (3-50, 4 -50, 5-50) and the housing for the fluid to be purified by said first radiation. In the invention, furthermore, a second source of radiation is provided in form of a layer (3-25, 4-37, 4-38) containing fluorescent component and arranged apart from the lamp (3-50, 4-50, 5-50), said fluorescent component being reactive to said first UV radiation emitted by the lamp to generate a second UV radiation containing at least one wavelength in the range of about 300 to 385 nm, and a catalytic material reactive to the second UV radiation to produce photo catalytic oxidation, preferably hydroxyl radicals, to the flow path.
(FR)L'invention concerne un appareil (3-40, 4-40, 5-40) et un procédé de purification d'un écoulement de matière (4-35, 4-36, 5-35, 5-36), en particulier d'air, de gaz ou de liquide. Il comprend une première source de rayonnement sous forme de lampe (3-50, 4-50, 5-50) générant un premier rayonnement UV contenant au moins une des longueurs d'onde d'approximativement 187 nm et 254 nm, et un logement entourant la lampe (3-50, 4-50, 5-50) et confinant une voie d'écoulement entre la lampe (3-50, 4-50, 5-50) et le logement de sorte que le fluide soit purifié par ledit premier rayonnement. Dans le cadre de l'invention, une seconde source de rayonnement est en outre fournie sous forme d'une couche (3-25, 4-37, 4-38) contenant un composant fluorescent et placé à distance de la lampe (3-50, 4-50, 5-50), ledit composant fluorescent étant réactif audit premier rayonnement UV émis par la lampe afin de générer un second rayonnement UV contenant au moins une longueur d'onde comprise approximativement entre 300 et 385 nm, et un matériau catalytique réactif au second rayonnement UV afin de produire une oxydation photocatalytique, de préférence des radicaux hydroxyles, au niveau de la voie d'écoulement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)