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Paramétrages

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1. WO2007137824 - CIBLES DE PULVÉRISATION CATHODIQUE COMPACTÉES À FROID

Numéro de publication WO/2007/137824
Date de publication 06.12.2007
N° de la demande internationale PCT/EP2007/004754
Date du dépôt international 30.05.2007
CIB
C23C 14/34 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22caractérisé par le procédé de revêtement
34Pulvérisation cathodique
CPC
C23C 14/3414
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
34Sputtering
3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
Déposants
  • W.C. HERAEUS GMBH [DE/DE]; Heraeusstrasse 12-14 63450 Hanau, DE (AllExceptUS)
  • SCHULTHEIS, Markus [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • WEIGERT, Martin [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventeurs
  • SCHULTHEIS, Markus; DE
  • WEIGERT, Martin; DE
Mandataires
  • KÜHN, Hans-Christian; Heraeus Holding GmbH Schutzrechte Heraeusstr. 12-14 63450 Hanau, DE
Données relatives à la priorité
10 2006 026 005.801.06.2006DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) KALTGEPRESSTE SPUTTERTARGETS
(EN) COLD-PRESSED SPUTTER TARGETS
(FR) CIBLES DE PULVÉRISATION CATHODIQUE COMPACTÉES À FROID
Abrégé
(DE)
Die Erfindung betrifft ein Sputtertarget mit einem Sputtermaterial aus einer Legierung oder Materialmischung aus mindestens zwei Komponenten, wobei die beiden Komponenten im thermodynamischen Ungleichgewicht vorliegen und besteht darin, dass die Komponenten durch ein isostatisches oder uniaxiales Kalt-Press-Verfahren kompaktiert sind.
(EN)
The invention relates to a sputter target comprising a sputter material that is made of an alloy or a material mixture composed of at least two components which are in a state of thermodynamic disequilibrium. According to the invention, the components are compacted by means of an isostatic or uniaxial cold-pressing process.
(FR)
L'invention concerne une cible de pulvérisation comprenant une matière de pulvérisation en alliage ou en mélange de matières comportant au moins deux composants en déséquilibre thermodynamique. L'invention est caractérisée en ce que les composants sont compactés par un procédé de compactage à froid isostatique ou uniaxial.
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