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1. WO2007104512 - DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA SOUS PRESSION ATMOSPHÉRIQUE

Numéro de publication WO/2007/104512
Date de publication 20.09.2007
N° de la demande internationale PCT/EP2007/002143
Date du dépôt international 12.03.2007
CIB
H05H 1/24 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
HTECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24Production du plasma
CPC
H05H 1/2406
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
2406Dielectric barrier discharges
Déposants
  • FACHHOCHSCHULE HILDESHEIM/HOLZMINDEN/GÖTTINGEN [DE]/[DE] (AllExceptUS)
  • VIÖL, Wolfgang [DE]/[DE] (UsOnly)
  • BORN, Stefan [DE]/[DE] (UsOnly)
  • KAEMLING, Andy [DE]/[DE] (UsOnly)
Inventeurs
  • VIÖL, Wolfgang
  • BORN, Stefan
  • KAEMLING, Andy
Mandataires
  • REHBERG HÜPPE + PARTNER
Données relatives à la priorité
10 2006 011 312.811.03.2006DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) VORRICHTUNG ZUR PLASMABEHANDLUNG UNTER ATMOSPHÄRENDRUCK
(EN) DEVICE FOR PLASMA TREATMENT AT ATMOSPHERIC PRESSURE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA SOUS PRESSION ATMOSPHÉRIQUE
Abrégé
(DE)
Eine Vorrichtung (1) zur Plasmabehandlung weist eine Elektrode (2), vor der eine dielektrische Abschirmung (3) angeordnet ist, und eine Wechselhochspannungsquelle (6), um eine Wechselhochspannung an die Elektrode (2) anzulegen, auf, um zur Erzeugung eines Plasmas (9) eine dielektrisch behinderte Gasentladung (11) in einem vor der dielektrischen Abschirmung (3) angeordneten, auf Atmosphärendruck befindlichen Gas (10) hervorzurufen. Dazu weist die Oberfläche (14) der Elektrode (2) eine flächige Verteilung von dem Gas (10) vor der dielektrischen Abschirmung (3) zugewandten Spitzen auf, wobei die dielektrische Abschirmung (3) der Elektrode (2) selbst eine dem Gas (10) vor der dielektrischen Abschirmung (3) zugewandte plane äußere Oberfläche (15) aufweist.
(EN)
The invention relates to a device (1) for plasma treatment, comprising an electrode (2) upstream of which a dielectric shield (3) is arranged, and an AC high voltage source (6) for applying an AC high voltage to the electrode (2) in order to bring about a dielectrically shielded gas discharge (11) in a gas (10) that is arranged upstream of the dielectric shield (3) and is at atmospheric pressure, thereby producing a plasma (9). For this purpose, pointed structures are distributed across the surface (14) of the electrode (2), said structures facing the gas (10) upstream of the dielectric shield (3), while the dielectric shield (3) of the electrode (2) has a planar outer surface (15) facing the gas (10) upstream of the dielectric shield (3).
(FR)
La présente invention concerne un dispositif (1) de traitement au plasma, présentant une électrode (2) en amont de laquelle se trouve un écran diélectrique (3), et une source de haute tension alternative (6) qui sert à appliquer une haute tension alternative à l'électrode (2), afin de provoquer une décharge de gaz (11) limitée par l'écran diélectrique, dans un gaz (10) sous pression atmosphérique qui se trouve en amont de l'écran diélectrique (3), de façon à produire un plasma (9). A cet effet, la surface (14) de l'électrode (2) présente une répartition plane des pointes orientées vers le gaz (10) en amont de l'écran diélectrique (3), l'écran diélectrique (3) de l'électrode (2) présentant lui-même une surface extérieure plane (15) orientée vers le gaz (10) en amont de l'écran diélectrique (3).
Également publié en tant que
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