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1. (WO2007103643) PROCÉDÉ ET APPAREIL PERMETTANT D'EFFECTUER UN TRAITEMENT THERMIQUE DE STRUCTURES FORMÉES SUR UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/103643    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/062672
Date de publication : 13.09.2007 Date de dépôt international : 23.02.2007
CIB :
H01L 21/76 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
MAYUR, Abhilash [US/US]; (US) (US Seulement).
YAM, Mark [US/US]; (US) (US Seulement).
BALAKRISHNA, Ajit [IN/US]; (US) (US Seulement).
CAREY, Paul [US/US]; (US) (US Seulement).
JENNINGS, Dean [US/US]; (US) (US Seulement).
MOFFATT, Stephen [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
SCHAFFER, William [US/US]; (US) (US Seulement).
LERNER, Alexander, N. [US/US]; (US) (US Seulement).
THOMAS, Timothy, N. [US/US]; (US) (US Seulement).
HUNTER, Aaron, Muir [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MAYUR, Abhilash; (US).
YAM, Mark; (US).
BALAKRISHNA, Ajit; (US).
CAREY, Paul; (US).
JENNINGS, Dean; (US).
MOFFATT, Stephen; (GB).
SCHAFFER, William; (US).
LERNER, Alexander, N.; (US).
THOMAS, Timothy, N.; (US).
HUNTER, Aaron, Muir; (US)
Mandataire : PATTERSON, B., Todd; Patterson & Sheridan, L.L.P., 3040 Post Oak Blvd., Suite 1500, Houston, Texas 77056-6582 (US)
Données relatives à la priorité :
60/780,745 08.03.2006 US
11/459,847 25.07.2006 US
11/459,852 25.07.2006 US
11/459,856 25.07.2006 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR THERMAL PROCESSING STRUCTURES FORMED ON A SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL PERMETTANT D'EFFECTUER UN TRAITEMENT THERMIQUE DE STRUCTURES FORMÉES SUR UN SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)The present invention generally describes one ore more apparatuses and various methods that are used to perform an annealing process on desired regions of a substrate. In one embodiment, an amount of energy is delivered to the surface of the substrate to preferentially melt certain desired regions of the substrate to remove unwanted damage created from prior processing steps, more evenly distribute dopants in various regions of the substrate, and/or activate various regions of the substrate. The preferential melting processes will allow more uniform distribution of the dopants in the melted region, due to the increased diffusion rate and solubility of the dopant atoms in the molten region of the substrate. The creation of a melted region thus allows: 1) the dopant atoms to redistribute more uniformly, 2) defects created in prior processing steps to be removed, and 3) regions that have hyper-abrupt dopant concentrations to be formed.
(FR)L'invention concerne un ou plusieurs appareils et divers procédés servant à exécuter un traitement de recuit sur des régions désirées d'un substrat. Un mode de réalisation consiste à appliquer une quantité d'énergie sur la surface du substrat, afin de faire fondre de manière préférentielle certaines régions désirées du substrat et d'éliminer ainsi la dégradation indésirable issue des étapes précédentes du traitement, de répartir plus uniformément les dopants dans diverses régions du substrat et/ou d'activer diverses régions du substrat. Les processus de fusion préférés permettent une répartition plus uniforme des dopants dans la région en fusion, grâce à une augmentation de la vitesse de diffusion et de la solubilité des atomes de dopant dans la région en fusion du substrat. La formation d'une région en fusion permet ainsi : (1) de procéder à une nouvelle répartition plus uniforme des atomes de dopant; (2) d'éliminer les défauts créés au cours des étapes précédentes du traitement; et (3) de former des régions présentant des concentrations de dopant présentant une jonction hyper-abrupte.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)