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1. (WO2007094322) DISPOSITIF EMETTEUR DE LUMIERE, PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF EMETTEUR DE LUMIERE, ET APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/094322    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/052521
Date de publication : 23.08.2007 Date de dépôt international : 13.02.2007
CIB :
H05B 33/10 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/26 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-Chome, Minato-Ku, Tokyo 1078481 (JP) (Tous Sauf US).
National University Corporation Tohoku University [JP/JP]; 1-1, Katahira 2-Chome, Aoba-Ku, Sendai-Shi, Miyagi 9808577 (JP) (Tous Sauf US).
NOZAWA, Toshihisa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MOYAMA, Kazuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OHMI, Tadahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAWAMURA, Chuichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YOSHINO, Kimihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NOZAWA, Toshihisa; (JP).
MOYAMA, Kazuki; (JP).
OHMI, Tadahiro; (JP).
KAWAMURA, Chuichi; (JP).
YOSHINO, Kimihiko; (JP)
Mandataire : ITOH, Tadahiko; 32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower 20-3, Ebisu 4-chome Shibuya-Ku, Tokyo 1506032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-036917 14.02.2006 JP
Titre (EN) LIGHT-EMITTING DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING LIGHT-EMITTING DEVICE, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF EMETTEUR DE LUMIERE, PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF EMETTEUR DE LUMIERE, ET APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 発光素子、発光素子の製造方法および基板処理装置
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a substrate processing apparatus for forming a light-emitting device, wherein an organic layer containing a light-emitting layer is formed between a first electrode and a second electrode, on a substrate to be processed. This substrate processing apparatus is characterized by comprising an organic layer-forming device for forming the organic layer on the first electrode formed on the substrate to be processed, an electrode-forming device for forming the second electrode on the organic layer, and an etching device for etching the organic layer.
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement de substrat utilisé pour former un dispositif émetteur de lumière, comprenant une couche organique contenant une couche émettrice de lumière formée entre une première électrode et une deuxième électrode, sur un substrat à traiter. L'appareil de traitement de substrat est caractérisé en ce qu'il comprend un dispositif de formation de couche organique utilisé pour former la couche organique sur la première électrode formée sur le substrat à traiter, un dispositif de formation d'électrode utilisé pour former la deuxième électrode sur la couche organique, et un dispositif d'attaque chimique utilisé pour soumettre la couche organique à une attaque chimique.
(JA) 第1の電極と第2の電極の間に発光層を含む有機層が形成されてなる発光素子を、被処理基板上に形成する、基板処理装置であって、前記被処理基板上に形成された前記第1の電極上に前記有機層を形成する有機層形成装置と、前記有機層上に前記第2の電極を形成する電極形成装置と、前記有機層をエッチングするエッチング装置と、を有することを特徴とする基板処理装置。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)