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1. (WO2007087767) SYSTÈME MICROMÉCANIQUE À DÉFLEXION ET SON UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/087767    N° de la demande internationale :    PCT/DE2006/000243
Date de publication : 09.08.2007 Date de dépôt international : 03.02.2006
CIB :
G01L 1/18 (2006.01), G01D 5/16 (2006.01), G01L 9/00 (2006.01)
Déposants : FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Hansastrasse 27C, 80686 München (DE) (Tous Sauf US).
CONRAD, Holger [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
KLOSE, Thomas [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SANDNER, Thilo [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : CONRAD, Holger; (DE).
KLOSE, Thomas; (DE).
SANDNER, Thilo; (DE)
Mandataire : PFENNING, MEINIG & PARTNER GBR; Gostritzer Strasse 61-63, 01217 Dresden (DE)
Données relatives à la priorité :
Titre (DE) AUSLENKBARES MIKROMECHANISCHES SYSTEM SOWIE DESSEN VERWENDUNG
(EN) DEFLECTABLE MICROMECHANICAL SYSTEM AND USE THEREOF
(FR) SYSTÈME MICROMÉCANIQUE À DÉFLEXION ET SON UTILISATION
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft auslenkbare mikromechanische Systeme sowie deren Verwendung, bei denen die Auslenkung mindestens eines auslenkbaren Elementes bestimmt werden kann. Erfindungsgemäß ist ein auslenkbares Element mit mindestens einem Federelement gehalten und es ist mindestens eine die Auslenkung erfassende Einheit vorhanden. Diese ist als piezoresistiver Sensor mit mindestens zwei in einem Abstand zueinander und in einem sich bei Auslenkung verformenden Bereich angeordneten Kontakten gebildet. Die Kontakte sind an eine elektrische Spannungsquelle angeschlossen. Es ist in Tiefenrichtung senkrecht zu Kontaktflächen ein inhomogenes elektrisches Feld ausgebildet, so dass der sich in Abhängigkeit der Auslenkung verändernde elektrische Widerstand zwischen Kontakten als Maß für die Position erfasst werden kann. Der sich verformende Bereich ist aus elektrisch leitendem oder halbleitenden Werkstoff gebildet.
(EN)The invention relates to deflectable micromechanical systems in which the deflection of at least one deflectable element can be determined, as well as the use thereof. According to the invention, a deflectable element is retained by means of at least one spring element while at least one unit is provided that detects the deflection. Said unit is configured as a piezoresistive sensor comprising at least two contacts which are disposed at a distance from each other in a zone that is deformed during the deflection. The contacts are connected to a voltage source. A non-homogeneous electric field is formed in a downward direction, perpendicular to contact surfaces, such that the electric resistance between contacts, which changes in accordance with the deflection, can be detected as a measure for the position. The zone that is deformed is made of electrically conducting or semiconducting material.
(FR)L'invention concerne des systèmes micromécaniques à déflexion et leur utilisation, la déflexion d'au moins un élément à déflexion pouvant être déterminée. Selon l'invention, un élément à déflexion est maintenu par au moins un élément élastique et au moins une unité permet de détecter la déflexion. En tant que capteur piézorésistif, cette unité est constituée d'au moins deux contacts espacés et disposés dans une zone se déformant lors de la déflexion. Les contacts sont raccordés à une source de courant électrique. Un champ électrique non homogène est créé dans la direction de profondeur perpendiculairement aux surfaces des contacts de manière à pouvoir détecter entre les contacts la résistance électrique variable en fonction de la déflexion, ce qui permet d'obtenir une indication de position. La zone se déformant est réalisée dans un matériau électroconducteur ou semi-conducteur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)