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1. (WO2007086254) APPAREIL A FAISCEAU DE PARTICULES CHARGEES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/086254    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/050190
Date de publication : 02.08.2007 Date de dépôt international : 11.01.2007
CIB :
H01J 37/16 (2006.01), H01J 37/18 (2006.01)
Déposants : SII NANOTECHNOLOGY INC. [JP/JP]; 8, Nakase 1-chome, Mihama-ku Chiba-shi, Chiba 2618507 (JP) (Tous Sauf US).
OGAWA, Takashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MUTO, Hiroto [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OGAWA, Takashi; (JP).
MUTO, Hiroto; (JP)
Mandataire : MATSUSHITA, Yoshiharu; AIOS Hiroo Building 807 11-2 Hiroo 1-chome Shibuya-ku, Tokyo 1500012 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-016159 25.01.2006 JP
Titre (EN) CHARGED PARTICLE BEAM EQUIPMENT
(FR) APPAREIL A FAISCEAU DE PARTICULES CHARGEES
(JA) 荷電粒子ビーム装置
Abrégé : front page image
(EN)Charged particle beam equipment capable of applying a high voltage to an electrostatic lens by preventing a very small amount of dust from depositing to an objective lens, i.e. the electrostatic lens. The charged particle beam equipment (1) comprises a chamber (2) having the interior (2a) which can be exhausted by an in-chamber exhaust means (4), and a body tube (3) for irradiating a sample (S) arranged in the interior (2a) of the chamber (2) with a charged particle beam (B1). The body tube (3) comprises a tube body (5) having an irradiation opening (6) for discharging the charged particle beam (B1), a charged particle supply section (7) housed on the proximal end (5c) side in the interior (5b) of the tube body (5) and discharging the charged particle beam (B1), and an objective lens (11) having an electrostatic lens housed on the distal end (5b) side in the interior (5b) of the tube body (5), and focusing the charged particle beam (B1) discharged from the charged particle supply section (7) by generating an electric field. The tube body (5) of the body tube (3) is provided, on the proximal end of the objective lens (11), with an air supply means (12) for supplying gas (G) to the interior (5b) of the tube body (5).
(FR)L’invention concerne un appareil à faisceau de particules chargées capable d’appliquer une tension élevée à une lentille électrostatique et d’empêcher le dépôt de poussière en quantité infime sur une lentille objective, autrement dit sur la lentille électrostatique. L’appareil (1) à faisceau de particules chargées comprend une enceinte (2) à l’intérieur (2a) de laquelle il est possible de faire le vide grâce à un moyen d’évacuation interne (4), et un tube (3) servant à irradier d’un faisceau de particules chargées (B1) un échantillon (S) placé à l’intérieur (2a) de l’enceinte (2). Le tube (3) comprend un corps tubulaire (5) présentant une ouverture d’irradiation (6) permettant d’émettre le faisceau de particules chargées (B1), une partie (7) d’apport de particules chargées abritée à l’intérieur (5b) du corps tubulaire (5) du côté de son extrémité proximale (5c) et émettant le faisceau de particules chargées (B1), et une lentille objective (11) comportant une lentille électrostatique abritée à l’intérieur (5b) du corps tubulaire (5) du côté de son extrémité distale (5b) et focalisant le faisceau de particules chargées (B1) émis par la partie (7) d’apport de particules chargées par génération d’un champ électrique. Le corps tubulaire (5) du tube (3) est pourvu, à l’extrémité proximale de la lentille objective (11), d’un moyen (12) d’amenée de gaz servant à amener un gaz (G) à l’intérieur (5b) du corps tubulaire (5).
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)