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1. (WO2007085549) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE PRODUCTION D'UN FILM CÉRAMIQUE POLYCRISTALLIN SUR UN SUBSTRAT, STRUCTURE DE CONDENSATEUR DOTÉE DE CE FILM CÉRAMIQUE ET UTILISATION DE CETTE STRUCTURE DE CONDENSATEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/085549    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/050368
Date de publication : 02.08.2007 Date de dépôt international : 16.01.2007
CIB :
C23C 14/35 (2006.01), G01N 29/02 (2006.01), H01L 41/09 (2006.01)
Déposants : SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Wittelsbacherplatz 2, 80333 München (DE) (Tous Sauf US).
LINK, Mathias [LU/LU]; (LU) (US Seulement).
SCHREITER, Matthias [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : LINK, Mathias; (LU).
SCHREITER, Matthias; (DE)
Représentant
commun :
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT; Postfach 22 16 34, 80506 München (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2006 003 847.9 26.01.2006 DE
Titre (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM HERSTELLEN EINES POLYKRISTALLINEN KERAMIKFILMS AUF EINEM SUBSTRAT, KONDENSATORSTRUKTUR MIT DEM KERAMIKFILM UND VERWENDUNG DER KONDENSATORSTRUKTUR
(EN) METHOD AND DEVICE FOR THE PRODUCTION OF A POLYCRYSTALLINE CERAMIC FILM ON A SUBSTRATE CAPACITIVE STRUCTURE COMPRISING SAID CERAMIC FILM AND USE OF SAID CAPACITIVE STRUCTURE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE PRODUCTION D'UN FILM CÉRAMIQUE POLYCRISTALLIN SUR UN SUBSTRAT, STRUCTURE DE CONDENSATEUR DOTÉE DE CE FILM CÉRAMIQUE ET UTILISATION DE CETTE STRUCTURE DE CONDENSATEUR
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines polykristallinen Keramikfilms auf einem Substrat mit folgenden Verfahrensschritten a) Bereitstellen des Substrats mit der Substratoberfläche und Bereitstellen mindestens einer Quelle für Keramikpartikel des Keramikfilms und b) Erzeugen eines Partikelstroms der Keramikpartikel von der Quelle der Keramikpartikel in Richtung der Substratoberfläche des Substrats, wobei die Keramikpartikel auf der Substratoberfläche des Substrats abgeschieden werden und somit der Keramikfilm gebildet wird. Das Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, dass innerhalb des Abstands mindestens eine Blende zum Einstellen eines mittleren Einfallswinkels der Keramikpartikel gegenüber einer Flächennormalen der Substratoberfläche angeordnet wird, so dass die Keramikpartikel mit einer Vorzugsrichtung auf der Substratoberfläche abgeschieden werden, und eine relative Lage der Substratoberfläche und der Blende zueinander geändert wird, wobei der Abstand im wesentlichen gleich bleibt. Neben dem Verfahren ist eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens angegeben. Mit dem Verfahren ist ein über die gesamte Substratoberfläche homogener Keramikfilm zugänglich. Daraus werden Dünnfilmresonatoren gewonnen, die zu Scherdickenschwingungen angeregt werden können. Diese Dünnfilmresonatoren werden zur Detektion einer Substanz eines Fluids (13), insbesondere einer Flüssigkeit, eingesetzt (z.B. als Biosensor).
(EN)The invention relates to a method for production of a polycrystalline ceramic film on a substrate comprising the following method steps: a) preparation of the substrate with the substrate surface and preparation of at least one source for the ceramic particles of the ceramic film and b) generation of a particle stream of the ceramic particles from the source of ceramic particles in the direction of the substrate surface on the substrate, with deposition of the ceramic particles on the substrate surface on the substrate with formation of the ceramic film. The method is characterised in that at least one screen is arranged within the gap, for adjusting an average incidence angle of the ceramic particles relative to a plane normal of the substrate surface, such that the ceramic particles are deposited on the substrate surface at a preferred direction and a relative position of the substrate surface and the screen is altered whilst the gap remains essentially the same. A device is disclosed in addition to said method. A homogeneous ceramic film over the whole substrate surface is achievable by said method. Thin film resonators are obtained from the above which can be stimulated to produce thickness shear oscillations. Said thin film resonators are use for detection of a substance in a fluid (13), in particular in a liquid ( for example, a biosensor).
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'un film céramique polycristallin sur un substrat. Ce procédé consiste à a) prévoir le substrat présentant la surface de substrat et à prévoir au moins une source destinée aux particules céramiques du film céramique et b) à produire un flux de particules céramique à partir de la source de particules céramique en direction de la surface du substrat. Les particules céramique sont déposées sur la surface du substrat et le film céramique est ainsi formé. Le procédé est caractérisé en ce qu'au moins un écran placé dans l'intervalle permet de régler un angle d'incidence moyen des particules céramique par rapport à la normale de la surface du substrat de telle façon que les particules céramique soient déposées dans une direction préférée sur la surface du substrat et qu'une position relative de la surface de substrat et de l'écran soit modifiée, la distance restant sensiblement identique. L'invention concerne également un dispositif permettant la mise en oeuvre du procédé. Le procédé permet d'obtenir un film céramique homogène sur toute la surface du substrat et, par conséquent, des résonateurs à mince film pouvant être excités en vibrations en mode cisaillement d'épaisseur. Ces résonateurs à mince film sont utilisés (p.ex. comme biocapteurs) pour la détection d'une substance d'un fluide (13), notamment d'un liquide.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)