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1. (WO2007010736) PROCEDE DE FABRICATION D'UN FILM DE PROTECTION ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN FILM INORGANIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/010736    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/313242
Date de publication : 25.01.2007 Date de dépôt international : 03.07.2006
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    17.05.2007    
CIB :
H01L 21/316 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/04 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
Déposants : PIONEER CORPORATION [JP/JP]; 4-1, Meguro 1-chome, Meguro-ku, Tokyo 1538654 (JP) (Tous Sauf US).
YOSHIZAWA, Tatsuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YOSHIZAWA, Tatsuya; (JP)
Mandataire : ISHIKAWA, Yasuo; Park Shiba Building 2F 17-11, Shiba 2-chome Minato-ku Tokyo1050014 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-208349 19.07.2005 JP
Titre (EN) PROTECTION FILM MANUFACTURING METHOD AND INORGANIC FILM MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D'UN FILM DE PROTECTION ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN FILM INORGANIQUE
(JA) 保護膜製造方法、無機膜製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A method for manufacturing a protection film for further improving density of an inorganic film or a method for manufacturing the inorganic film is provided. In a method for manufacturing an organic EL element (100) as an element, a barrier film (12) as a protection film for protecting an organic TFT (50), and a sealing film (20), an incompletely oxidized inorganic film (120) is formed prior to oxidation, and the formed inorganic film (120) is oxidized to be at least a part of the protection film.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un film de protection destiné à augmenter la densité d'un film inorganique, ou un procédé de fabrication du film inorganique. Au cours d'un procédé de fabrication d'un élément EL organique (100) en tant qu’élément, d'un film barrière (12) en tant que film de protection pour un TFT organique (50), et d'un film de scellement (20), un film inorganique n'étant pas complètement oxydé (120) est formé avant oxydation, et ce film inorganique (120) est oxydé afin de former au moins une partie du film de protection.
(JA) 無機膜の緻密性をより十分とできる保護膜の保護膜製造方法または無機膜製造方法の提供する。  素子たる有機EL素子100、有機TFT50を保護する保護膜たるバリア膜12、封止膜20の製造方法は、完全に酸化していない酸化前無機膜120を形成し、形成した酸化前無機膜120を酸化させて保護膜の少なくとも一部とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)