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1. (WO2007010041) INTERFEROMETRE EWOD
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/010041    N° de la demande internationale :    PCT/EP2006/064516
Date de publication : 25.01.2007 Date de dépôt international : 21.07.2006
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    25.01.2007    
CIB :
G01N 21/45 (2006.01), G01B 9/02 (2006.01)
Déposants : COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE [FR/FR]; Immeuble "Le Ponant D", 25 Rue Leblanc, F-75015 Paris (FR) (Tous Sauf US).
BOUTET, Jérôme [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : BOUTET, Jérôme; (FR)
Mandataire : POULIN, Gérard; BREVATOME, 3, Rue Du Docteur Lancereaux, F-75008 Paris (FR)
Données relatives à la priorité :
05 52281 22.07.2005 FR
Titre (EN) EWOD INTERFEROMETER
(FR) INTERFEROMETRE EWOD
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to an interferometric device comprising means for forming first and second beams (50, 51) to be interfered, a first substrate (1) having a hydrophobic surface, first electrowetting electrodes (53) in the substrate or under the surface in order to form a volume of a first fluid from a first container and second electrowetting electrodes in the substrate or under the surface in order to position said volume, and/or deform same by means of electrowetting, in a direction (63) defined by the path of the first beam.
(FR)L'invention concerne un dispositif interf érométrique comportant des moyens pour former un premier et un deuxième faisceaux (50, 51) devant interférer, un premier substrat (1) à surface hydrophobe, des premières électrodes d' électromouillage (53) dans ce substrat ou sous cette surface pour former un volume d'un premier fluide, à partir d'un premier réservoir, et des deuxièmes électrodes d' électromouillage dans ce substrat ou sous cette surface pour positionner ce volume, et/ou le déformer par électromouillage, dans une direction (63) définie par le trajet du premier faisceau.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)