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1. WO2006109427 - PROCEDE DE PURIFICATION D’HEXACHLORURE DE DISILICIUM ET HEXACHLORURE DE DISILICIUM DE PURETE ELEVEE

Numéro de publication WO/2006/109427
Date de publication 19.10.2006
N° de la demande internationale PCT/JP2006/305441
Date du dépôt international 17.03.2006
CIB
C01B 33/107 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
01CHIMIE INORGANIQUE
BÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
33Silicium; Ses composés
08Composés halogénés
107Silanes halogénés
CPC
C01B 33/10784
CCHEMISTRY; METALLURGY
01INORGANIC CHEMISTRY
BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; ; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
33Silicon; Compounds thereof
08Compounds containing halogen
107Halogenated silanes
10778Purification
10784by adsorption
Déposants
  • 東亞合成株式会社 TOAGOSEI CO., LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 石川 幸二 ISHIKAWA, Koji [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 鈴木 浩 SUZUKI, Hiroshi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 木全 良典 KIMATA, Yoshinori [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • 石川 幸二 ISHIKAWA, Koji
  • 鈴木 浩 SUZUKI, Hiroshi
  • 木全 良典 KIMATA, Yoshinori
Mandataires
  • 小島 清路 KOJIMA, Seiji
Données relatives à la priorité
2005-11143807.04.2005JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR PURIFICATION OF DISILICON HEXACHLORIDE AND HIGH PURITY DISILICON HEXACHLORIDE
(FR) PROCEDE DE PURIFICATION D’HEXACHLORURE DE DISILICIUM ET HEXACHLORURE DE DISILICIUM DE PURETE ELEVEE
(JA) 六塩化二ケイ素の精製方法及び高純度六塩化二ケイ素
Abrégé
(EN)
The purpose is to provide is a method for removing silanol with good efficiency from a raw material of disilicon hexachloride containing silanol as an impurity, to thereby prepare a high purity disilicon hexachloride. A method for purifying disilicon hexachloride including a step of contacting a raw material of disilicon hexachloride containing disilicon hexachloride and silanol as an impurity with an adsorbing material such as an activated carbon, to remove the silanol. The method may further includes a distillation step. It is preferred that the above steps are carried out in an atmosphere of an inert gas.
(FR)
La présente invention concerne un procédé d’élimination du silanol avec un bon rendement, à partir d’hexachlorure de disilicium contenant le silanol en tant qu’impureté, afin de préparer de l’hexachlorure de disilicium de pureté élevée. Le procédé décrit inclut une étape de mise en contact d’un matériau de départ à l’hexachlorure de disilicium, contenant de l’hexachlorure de disilicium et du silanol en tant qu’impureté, avec un matériau adsorbant tel que du charbon actif, afin d’éliminer le silanol. Le procédé peut en outre inclure une étape de distillation. Il est préférable d'effectuer les opérations précédentes sous atmosphère de gaz inerte.
(JA)
 本発明の目的は、不純物としてシラノールを含む六塩化二ケイ素原料からシラノールを効率よく除去して、高純度の六塩化二ケイ素を得る方法を提供することである。本発明の六塩化二ケイ素の精製方法は、六塩化二ケイ素と、不純物としてのシラノールとを含む六塩化二ケイ素原料を、活性炭等の吸着材と接触させ、シラノールを除去する工程を備える。更に、蒸留する工程を備えることもできる。上記各工程は、不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
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