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1. (WO2006036543) MASQUE DE MATRICE PORTABLE ET ADAPTABLE, RESISTANT AUX ULTRAVIOLETS PROFONDS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/036543    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/032648
Date de publication : 06.04.2006 Date de dépôt international : 12.09.2005
CIB :
G11B 7/26 (2006.01)
Déposants : IMATION CORP. [US/US]; 1 Imation Place, P.O. Box 64898, St. Paul, MN 55164-0898 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : EDWARDS, Jathan, D.; (US).
MORKVED, Terry, L.; (US)
Mandataire : LEVINSON, Eric, D.; Imation Corp., Legal Affairs, P.O. Box 64898, St. Paul, MN 55164-0898 (US)
Données relatives à la priorité :
10/953,198 28.09.2004 US
Titre (EN) PORTABLE CONFORMABLE DEEP ULTRAVIOLET MASTER MASK
(FR) MASQUE DE MATRICE PORTABLE ET ADAPTABLE, RESISTANT AUX ULTRAVIOLETS PROFONDS
Abrégé : front page image
(EN)Mastering techniques are described that can improve the quality of a master used in data storage disk manufacturing. In particular, the techniques can improve resolution of the features created on the master. The techniques include coating a master substrate layer (32) with a tri-layer structure composed of a top photoresist layer (36), a bottom photoresist layer (34), and a non-resist layer (35) interposed between the two photoresist layers. The bottom photoresist layer (34) comprises a deep ultraviolet (DUV) resist material. Mastering the top photoresist layer (36) defines a portable conformable mask (PCM) for the bottom photoresist layer. A variety of PCM may be defined for the bottom photoresist layer. The PCM may be defined using conventional tip recording with a focused laser spot that provides fine feature definition. A blanket DUV light (48) may then illuminate the bottom photoresist layer (34) through the PCM to provide enhanced feature resolution in a data storage disk master.
(FR)La présente invention décrit des techniques de matriçage permettant d'améliorer la qualité d'une matrice servant à la fabrication des disques de stockage de données. Les techniques décrites peuvent notamment améliorer la résolution des caractéristiques créées sur la matrice. Ces techniques consistent notamment à recouvrir une couche substrat de matrice (32) d'une structure en trois couches, composée d'une couche supérieure en résine photosensible (36), d'une couche de fond en résine photosensible (34), ainsi que d'une couche non photosensible (35) interposée entre les deux couches en résine photosensible. La couche de fond en résine photosensible (34) comprend un matériau résistant aux ultraviolets profonds (DUV). Le matriçage de la couche supérieure en résine photosensible (36) définit un masque portable adaptable (PCM) pour la couche de fond en résine photosensible. Une multitude de PCM peut être définie pour la couche de fond. Le PCM peut être défini au moyen de pointes d'enregistrement classiques avec un point laser focalisé permettant une bonne définition des caractéristiques. Une couverture lumineuse DUV (48) peut alors éclairer la couche de fond en résine photosensible (34) à travers le PCM pour améliorer la résolution des caractéristiques dans une matrice de disques de stockage de données.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)