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1. (WO2006026941) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR STRUCTURER UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/026941    N° de la demande internationale :    PCT/DE2005/001321
Date de publication : 16.03.2006 Date de dépôt international : 27.07.2005
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    30.06.2006    
CIB :
G03F 7/00 (2006.01)
Déposants : FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH [DE/DE]; Wilhelm-Johnen-Strasse, 52425 Jülich (DE) (Tous Sauf US).
SZOT, Krysztof [PL/DE]; (DE) (US Seulement).
PETER, Frank [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
REICHENBERG, Bernd [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : SZOT, Krysztof; (DE).
PETER, Frank; (DE).
REICHENBERG, Bernd; (DE)
Représentant
commun :
FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH; Fachbereich Patente, 52425 Jülich (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2004 044 083.2 09.09.2004 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR STRUKTURIERUNG EINES SUBSTRATS UND VORRICHTUNG HIERZU
(EN) METHOD AND DEVICE FOR STRUCTURING A SUBSTRATE
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR STRUCTURER UN SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Strukturierung eines Substrats, bei dem über dem Substrat mindestens eine Maske mit einer Öffnung angeordnet ist und unmas­kierte Bereiche gegenüber maskierten Bereichen des Sub­strats zur Bildung von Strukturen verändert werden. Das Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, dass während des Verfahrens die Abbildung der Maskenöffnung auf und/oder in dem Substrat kleinere Abmessungen aufweist, als die Abmessung der Maskenöffnung. Eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens ist offenbart.
(EN)The invention relates to a method for structuring a substrate. According to said method, at least one mask with at least one opening is arranged over the substrate, and unmasked regions are modified in relation to masked regions of the substrate in order to form structures. The inventive method is characterised in that the representation of the mask opening on and/or in the substrate has smaller dimensions than those of the actual mask opening. The invention also relates to a device for carrying out said method.
(FR)La présente invention concerne un procédé pour structurer un substrat, qui consiste à appliquer sur le substrat au moins un masque présentant une ouverture, puis à modifier des zones non masquées du substrat par rapport à des zones masquées afin de former des structures. Le procédé est caractérisé en ce que la représentation de l'ouverture du masque sur et/ou dans le substrat présente des dimensions plus petites que celles de l'ouverture de masque. Cette invention concerne également un dispositif permettant de mettre en oeuvre ce procédé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)