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1. (WO2005089150) SOUS-COUCHE THERMODURCISSABLE POUR APPLICATION LITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/089150    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/007588
Date de publication : 29.09.2005 Date de dépôt international : 09.03.2005
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    05.10.2005    
CIB :
H01L 21/31 (2006.01), H01L 21/469 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS USA INC. [US/US]; 80 Circuit Drive, North Kingstown, RI 02852 (US)
Inventeurs : DE BINOD, B.; (US).
MALIK, Sanjay; (US).
KOCAB, Thomas, J.; (US).
SARUBBI, Thomas; (US)
Mandataire : GREELEY, Paul, D.; Ohlandt, Greeley, Ruggiero & Perle LLP, One Landmark Square, 10th Floor, Stamford, CT 06901-2682 (US)
Données relatives à la priorité :
60/552,489 12.03.2004 US
Titre (EN) THERMALLY CURED UNDERCOAT FOR LITHOGRAPHIC APPLICATION
(FR) SOUS-COUCHE THERMODURCISSABLE POUR APPLICATION LITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)Thermally curable undercoat composition comprising for producing a bilayer relief image comprising a) a polymer of Structure (I) comprising repeating units of Structure (II), (III), and (IV) wherein each R1 is independently a hydrogen atom or an alkyl group having from 1 to 3 carbon atoms or a halogen atom; L represents a single bond, a -COO- group, or a -CON(R2)- group; R2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having from 1 to 3 carbon atoms; M represents a C5-7 cycloalkylene group or an arylene group having from 6 to 18 carbon atoms; W represents a single bond, a -COO- group, -0-, -(C=O)-, or -(SO2)-; R3 represents a hydrogen atom or a linear unsubstituted or substituted alkyl having from 5 to 30 carbon atoms or an unsubstituted or substituted cycloalkyl group having from 5 to 30 carbon atoms, a bridged unsubstituted or substituted alicyclic hydrocarbon group having from 5 to 25 carbon atoms or an unsubstituted or substituted aryl group having from 6 to 18 carbon atoms or an arylalkyl group having from 7 to 18 carbon atoms; n is an integer from 1 to 3, q is an integer from 0 to 3, the sum of n and q being no greater than 5; R4 is a linear or branched or cyclic C1 - C10 alkyl or a halogen group; R5 is an alkyl or branched alkyl or cyclic alkyl or an unsubstituted or substituted alicyclic group, having 5 to 30 carbon atoms or (R60)tR7 group where R6 is a C1-10 linear or branched alkylene group and R7 is linear, branched or cyclic alkyl or an unsubstituted or substituted alicyclic group or an unsubstituted or substituted a romatic or a Ikyl a romatic group having 1 to 30 carbon atoms and t is an integer about 1 to 4; b) a phenolic crosslinker; c) a thermal acid generator (TAG); and d) a solvent.
(FR)La présente invention a trait à une composition de sous-couche thermodurcissable pour la production d'une image en relief bicouche comportant : a) un polymère de formule (I), comprenant des motifs de répétition de formule (II), (III), et (IV) dans lesquelles chaque R1 est indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle ayant 1 à 3 atomes de carbone ou un atome d'halogène ; L représente une liaison simple, un groupe -COO-, ou un groupe -CON(R2)-; R2 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle ayant 1 à 3 atomes de carbone; M représente un groupe cycloalkylène en C5-C7 ou un groupe arylène ayant 6 à 18 atomes de carbone; W représente une liaison simple, un groupe -COO-, -O-, -(C=O)-, ou -(SO2)-; R3 représente un atome d'hydrogène ou un alkyle linéaire ou ramifié non substitué ou substitué ayant 5 à 30 atomes de carbone ou un groupe cycloalkyle non substitué ou substitué ayant 5 à 30 atomes de carbone, un groupe hydrocarboné acyclique ponté non substitué ou substitué ayant 5 à 25 atomes de carbone ou un groupe aryle non substitué ou substitué ayant 6 à 18 atomes de carbone ou un groupe arylalkyle ayant 7 à 18 atomes de carbone; n est un nombre entier de 1 à 3, q est un nombre entier de 0 à 3, la somme de n et de q étant inférieure ou égale à 5; R4 est un alkyle linéaire ou ramifié ou cyclique en C1-C10 ou un groupe halogène ; R5 est un groupe alkyle ou alkyle ramifié ou alkyle cyclique ou un groupe alicyclique non substitué ou substitué, ayant 5 à 30 atomes de carbone ou un groupe (R6O)tR7 où R6 est un groupe alkylène linéaire ou ramifié en C1-C10 et R7 est alkyle linéaire, ramifié ou cyclique ou un groupe alicyclique non substitué ou substitué ou un groupe aromatique non substitué ou substitué ou un groupe alkyle aromatique non substitué ou substitué ayant 1 à 30 atomes de carbone et t est un nombre entier d'environ 1 à 4 ; b) un agent de réticulation phénolique; c) un générateur d'acide thermique ; et d) un solvant.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)