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1. (WO2005089131) SOURCE DE RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTREME A PLASMA CREE PAR LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/089131    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/007063
Date de publication : 29.09.2005 Date de dépôt international : 03.03.2005
CIB :
H01J 35/20 (2006.01)
Déposants : CYMER, INC. [US/US]; 17075 Thornmint Court, San Diego, CA 92127-2413 (US) (Tous Sauf US).
PARTLO, William, N. [US/US]; (US) (US Seulement).
BROWN, Daniel, J., W. [US/US]; (US) (US Seulement).
FOMENKOV, Igor, V. [US/US]; (US) (US Seulement).
BOWERING, Norbert, R. [US/US]; (US) (US Seulement).
RETTIG, Curtis, L. [US/US]; (US) (US Seulement).
MACFARLANE, Joseph, J. [US/US]; (US) (US Seulement).
ERSHOV, Alexander, I. [US/US]; (US) (US Seulement).
HANSSON, Bjorn, A., M. [SE/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : PARTLO, William, N.; (US).
BROWN, Daniel, J., W.; (US).
FOMENKOV, Igor, V.; (US).
BOWERING, Norbert, R.; (US).
RETTIG, Curtis, L.; (US).
MACFARLANE, Joseph, J.; (US).
ERSHOV, Alexander, I.; (US).
HANSSON, Bjorn, A., M.; (US)
Mandataire : CRAY, William, C.; Cymer, Inc., Legal Dept., MS/4-2C, 17075 Thornmint Court, San Diego, CA 92127-2413 (US)
Données relatives à la priorité :
10/803,526 17.03.2004 US
10/979,919 01.11.2004 US
Titre (EN) LPP EUV LIGHT SOURCE
(FR) SOURCE DE RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTREME A PLASMA CREE PAR LASER
Abrégé : front page image
(EN)An LPP EUV light source (20) comprises a laser initial target irradiation pulse generating mechanism (60) for irradiating a plasma initiation target (94) with an initial target irradiation pulse (55) to form an EUV generating plasma (30) having an emission region emitting in-band EUV light (40); a laser plasma irradiation pulse generating mechanism (72) for irradiating the plasma (30) with a plasma irradiation pulse (76) after the initial target irradiation pulse (55) to compress emission material in the plasma (30).
(FR)La présente invention se rapporte à un appareil et à un procédé permettant de fournir avec une grande efficacité des impulsions de lumière laser d'irradiation de plasma dans une source de rayonnement ultraviolet extrême à plasma créé par laser. Ladite source lumineuse peut comprendre : un mécanisme laser de génération d'impulsions d'irradiation cible initiale, qui irradie une cible d'amorçage de plasma à l'aide d'une impulsion d'irradiation cible initiale, afin de former un plasma générateur de rayonnement ultraviolet extrême possédant une région d'émission émettant un rayonnement ultraviolet extrême intrabande ; un mécanisme laser de génération d'impulsions d'irradiation de plasma, qui irradie le plasma à l'aide d'une impulsion d'irradiation de plasma après l'impulsion d'irradiation cible initiale, afin de comprimer le matériau d'émission contenu dans le plasma vers la région d'émission du plasma. L'impulsion d'irradiation de plasma peut se présenter sous la forme d'une impulsion laser dont la longueur d'onde est suffisamment supérieure à celle de l'impulsion d'irradiation cible initiale pour présenter une densité critique inférieure associée entraînant l'absorption dans le plasma, dans une région de ce dernier qui est définie par la longueur d'onde de l'impulsion d'irradiation de plasma et qui est suffisamment éloignée d'un site d'irradiation cible initial, afin de réaliser la compression du matériau d'émission, ce qui permet de comprimer la région d'émission. L'impulsion laser d'irradiation de plasma peut produire une masse volumique aérienne dans le nuage d'ablation du plasma suffisante pour confiner le plasma à émission favorable en vue d'une efficacité de conversion améliorée. La région de dépôt pour l'impulsion d'irradiation de plasma peut être suffisamment éliminée de la surface cible initiale pour garantir la compression du plasma à émission favorable. Selon l'invention, une source de rayonnement ultraviolet extrême à plasma créé par laser à haute efficacité de conversion peut comprendre : un mécanisme laser de génération d'impulsions d'irradiation cible initiale, qui irradie une cible d'amorçage de plasma à l'aide d'une impulsion d'irradiation cible afin de former un plasma générateur de rayonnement ultraviolet extrême émettant un rayonnement ultraviolet extrême intrabande ; et un compacteur de plasma, qui environne sensiblement le plasma afin de restreindre l'expansion du plasma.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)