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1. (WO2005085956) PELLICULE POUR LENTILLE LITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/085956    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/006210
Date de publication : 15.09.2005 Date de dépôt international : 26.02.2005
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ADVANCED MICRO DEVICES, INC. [US/US]; One AMD Place, Mail Stop 68, P.O.Box 3453, Sunnyvale, CA 94088-3453 (US) (Tous Sauf US).
KYE, Jongwook [KR/US]; (US) (US Seulement).
BABCOCK, Carl, P. [US/US]; (US) (US Seulement).
LYONS, Christopher, F. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : KYE, Jongwook; (US).
BABCOCK, Carl, P.; (US).
LYONS, Christopher, F.; (US)
Mandataire : DRAKE, Paul, S.; One AMD Place, Mail Stop 68, P.O. Box 3453, Sunnyvale, CA 94088-3453 (US)
Données relatives à la priorité :
10/790,412 01.03.2004 US
Titre (EN) PELLICLE FOR A LITHOGRAPHIC LENS
(FR) PELLICULE POUR LENTILLE LITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are a method and apparatus for preventing contamination in a lithographic apparatus (10) including a projection system (24). The lithographic apparatus (10) images an irradiated portion of a mask (22) onto a target portion (40) of a substrate (28). A pellicle (32, 36) is placed with respect to a surface (34, 38) of the projection system (24) to inhibit contamination of the surface (34, 38) using a moveable mounting means (42a, 42b).
(FR)Procédé et appareil permettant d'éviter toute contamination dans un appareil de lithographie (10) comprenant un système de projection (24). L'appareil de lithographie (10) produit une image d'une partie irradiée d'un masque (22) sur une partie cible (40) d'un substrat (28). Des moyens de montage mobiles (42a, 42b) sont utilisés pour positionner une pellicule (32, 36), par rapport à une surface (34, 38) du système de projection (24), de telle manière qu'elle prévient toute contamination de la surface (34, 38).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)