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1. (WO2005064409) PELLICULE AMOVIBLE POUR LA LITHOGRAPHIE PAR IMMERSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/064409    N° de la demande internationale :    PCT/IB2004/052886
Date de publication : 14.07.2005 Date de dépôt international : 22.12.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. [NL/NL]; Groenewoudseweg 1, NL-5621 BA Eindhoven (NL) (Tous Sauf US).
DIRKSEN, Peter [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
MORTON, Robert, D. [GB/BE]; (NL) (US Seulement).
ZANDBERGEN, Peter [NL/BE]; (NL) (US Seulement).
VAN STEENWINCKEL, David [BE/BE]; (NL) (US Seulement).
AKSENOV, Yuri [RU/BE]; (NL) (US Seulement).
LAMMERS, Jeroen, H. [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
VAN WINGERDEN, Johannes [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
MARINIER, Laurent [FR/BE]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : DIRKSEN, Peter; (NL).
MORTON, Robert, D.; (NL).
ZANDBERGEN, Peter; (NL).
VAN STEENWINCKEL, David; (NL).
AKSENOV, Yuri; (NL).
LAMMERS, Jeroen, H.; (NL).
VAN WINGERDEN, Johannes; (NL).
MARINIER, Laurent; (NL)
Mandataire : ELEVELD, Koop, J.; Prof. Holstlaan 6, NL-5656 AA Eindhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
03104940.6 23.12.2003 EP
04102397.9 28.05.2004 EP
Titre (EN) REMOVABLE PELLICLE FOR IMMERSION LITHOGRAPHY
(FR) PELLICULE AMOVIBLE POUR LA LITHOGRAPHIE PAR IMMERSION
Abrégé : front page image
(EN)A method of irradiating to pattern a photosensitive layer such as a resist (L2) immersed in a fluid (L3), involves applying a removable transparent layer (L4, L5), projecting the radiation onto the resist through the immersion fluid and through the transparent layer, such that imperfections in the fluid are out of focus as projected on the surface, and subsequently removing the transparent layer. The transparent layer can help distance such imperfections from the focus of the radiation on the surface and so can reduce or eliminate shadowing. Hence the irradiation can be more complete, and defects reduced. It can be particularly effective for imperfections in the form of small bubbles or particles in the immersion fluid especially at the fluid/surface interface for example. The radiation can be for any purpose including inspection, processing, patterning and so on. The removal of the transparent layer can be combined with a step of developing the resist layer.
(FR)Un procédé permettant d'appliquer un motif par irradiation sur une couche photosensible, telle qu'une résine (L2) immergée dans un fluide (L3), consiste à appliquer une couche transparente amovible (L4, L5), à projeter le rayonnement sur la résine à travers le fluide d'immersion et la couche transparente de telle sorte que les imperfections du fluide, telles que projetées sur la surface, soient floues, et à enlever ultérieurement la couche transparente. Ladite couche transparente permet d'éloigner de telles imperfections du foyer du rayonnement sur la surface, ce qui permet de réduire ou d'éliminer les ombres. L'irradiation peut ainsi être plus complète et les défauts sont réduits. Ce procédé est particulièrement efficace s'agissant des imperfections sous forme de petites bulles ou particules dans le fluide d'immersion, en particulier à l'interface entre le fluide et la surface, par exemple. Le rayonnement peut être appliqué à des fins telles que l'inspection, le traitement, la création de motifs et autres. L'enlèvement de la couche transparente peut être combinée avec une étape de développement de la couche de résine photosensible.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)