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1. (WO2005010014) PROCEDE DE PRODUCTION DE DIMERE OPTIQUEMENT ACTIF D'HETEROCYLE DE PHOSPHORE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/010014    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/010671
Date de publication : 03.02.2005 Date de dépôt international : 27.07.2004
CIB :
C07F 9/6568 (2006.01), C07F 15/00 (2006.01)
Déposants : NIPPON CHEMICAL INDUSTRIAL CO., LTD. [JP/JP]; 9-11-1, Kameido Koto-ku, Tokyo 136-8515 (JP) (Tous Sauf US).
OOHARA, Nobuhiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IMAMOTO, Tsuneo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OOHARA, Nobuhiko; (JP).
IMAMOTO, Tsuneo; (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-280584 28.07.2003 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING OPTICALLY ACTIVE DIMER OF PHOSPHORUS HETEROCYCLE
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE DIMERE OPTIQUEMENT ACTIF D'HETEROCYLE DE PHOSPHORE
(JA) 光学活性なリン複素環二量体の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A compound represented by the following general formula (2): (Chemical formula 2) (wherein Y represents halogeno or a leaving group selected among -Ots, -Otf, and -Oms and n is a number of 3 to 6) is caused to act on a primary phosphine represented by the following general formula (1): (Chemical formula 1) (wherein R represents linear, branched, or cyclic C2-20 alkyl) in the presence of a base. Subsequently, boron trihydride, oxygen, or sulfur is caused to act thereon to obtain a heterocyclic phosphorus compound represented by the following general formula (3): (Chemical formula 3) (wherein R is the same as defined above; n is a number of 1 to 4; X represents a boron trihydride group, oxygen, or sulfur; and === indicates a single bond when X is a boron trihydride group, and indicates a double bond when X is oxygen or sulfur). The compound is dimerized to obtain a dimer of the heterocyclic phosphorus compound, the dimer being represented by the following general formula (4): (Chemical formula 4) (wherein R, n, and X are the same as defined above). Subsequently, the phosphorus heterocycle dimer is subjected to deoxidation, desulfurization, or borane elimination to obtain an optically active phosphorus heterocycle dimer represented by the following general formula (5): (Chemical formula 5) (wherein R and n are the same as defined above).
(FR)L'invention concerne un composé représenté par la formule générale suivante (2) : (formule chimique 2), (dans laquelle Y représente un groupe halogéno ou partant choisi parmi Ots, -Otf, et Oms, n étant un nombre compris entre 3 et 6), qui agit sur une phosphine primaire représentée par la formule générale suivante (1) : (formule chimique 1), (dans laquelle R représente C2 20 alkyle linéaire, ramifié ou cyclique) en présence d'une base. Par la suite, le trihydrure de bore, l'oxygène ou le soufre agit sur elle et on obtient alors un composé de phosphore hétérocyclique représenté par la formule générale suivante (3) : (formule chimique 3), (dans laquelle R est tel que défini ci-dessus ; n étant un nombre compris entre 1 et 4 ; X représente un groupe trihydrure de bore, oxygène, ou soufre ; et === indique une liaison simple lorsque X est un groupe trihydrure de bore, et une liaison double lorsque X représente oxygène ou soufre). Ledit composé est dimérisé et on obtient un dimère du composé de phosphore hétérocyclique, le dimère étant représenté par la formule générale suivante (4) : (formule chimique 4), (dans laquelle R, n, et X sont tels que définis ci-dessus). Par la suite, le dimére d'hétérocycle de phosphore est soumis à une désoxydation, à une désulfuration, ou à une élimination de borane pour obtenir un dimére d'hétérocycle de phosphore représenté par la formule générale suivante (5) : (formule chimique 5), (dans laquelle R et n sont tels que définis ci-dessus).
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)