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Paramétrages

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1. WO2005009090 - DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA ET SA STRUCTURE D'ELECTRODES

Numéro de publication WO/2005/009090
Date de publication 27.01.2005
N° de la demande internationale PCT/JP2004/010415
Date du dépôt international 22.07.2004
CIB
H01J 37/32 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
CPC
H01J 37/32009
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
H01J 37/32541
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
32532Electrodes
32541Shape
Déposants
  • 積水化学工業株式会社 SEKISUI CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 〒5308565 大阪府大阪市北区西天満2丁目4番4号 Osaka 4-4, Nishitemma 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308565, JP (AllExceptUS)
  • 上原 剛 UEHARA, Tsuyoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 大野 毅之 ONO, Takayuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 勢造 一志 SEZUKURI, Hitoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 竹内 裕人 TAKEUCHI, Hiroto [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 小宮 広実 KOMIYA, Hiromi [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 伊藤 巧 ITO, Takumi [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 太田 宜衛 OHTA, Takae [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 上原 剛 UEHARA, Tsuyoshi; JP
  • 大野 毅之 ONO, Takayuki; JP
  • 勢造 一志 SEZUKURI, Hitoshi; JP
  • 竹内 裕人 TAKEUCHI, Hiroto; JP
  • 小宮 広実 KOMIYA, Hiromi; JP
  • 伊藤 巧 ITO, Takumi; JP
  • 太田 宜衛 OHTA, Takae; JP
Mandataires
  • 渡辺 昇 WATANABE, Noboru; 〒1020074 東京都千代田区九段南3丁目7番7号、九段南グリーンビル3階 Tokyo Kudanminami Green Bldg. 3F., 7-7, Kudanminami 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1020074, JP
Données relatives à la priorité
2003-27853623.07.2003JP
2003-27853723.07.2003JP
2003-34219530.09.2003JP
2003-38569114.11.2003JP
2004-08016619.03.2004JP
2004-08016719.03.2004JP
2004-21418222.07.2004JP
2004-21418322.07.2004JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) PLASMA TREATING APPARATUS AND ITS ELECTRODE STRUCTURE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA ET SA STRUCTURE D'ELECTRODES
(JA) プラズマ処理装置及びその電極構造
Abrégé
(EN)
[PROBLEMS] To provide a plasma treating apparatus for an object with a large area, wherein the amount of deflection due to the Coulomb force of the electrode is reduced and the uniformness of the surface treatment is ensured. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] An electrode structure (30X) of a plasma treating apparatus comprises a pair of electrode rows (31X, 32X) facing to each other in the back and forth direction and each extending in the left and right direction. Each electrode row is composed of electrode members (31A to 32C) arranged in the left and right direction. The electrode members of one electrode row and those of the other are so disposed in substantially the same positions in the left and right directions. Each of the electrode members of one electrode row has a polarity opposite to that of the respective opposed electrode member of the other. Between the opposed surfaces of the electrode members of the electrode rows, a row-to-row gap (33p) is defined. Any two adjacent electrode members of each electrode row have polarities opposite to each other.
(FR)
Dispositif de traitement au plasma conçu pour un objet fortement dimensionné et présentant une limitation du niveau de déflechissement dû à la force de Coulomb de l'électrode, tout en permettant d'assurer une régularité de traitement de surface. Une structure d'électrodes (30X) de ce dispositif de traitement au plasma est composée d'une paire de rangées d'électrodes (31X, 32X) situées l'une en face de l'autre dans des sens avant et arrière et s'étendant chacune vers la droite et vers la gauche. Chaque rangée d'électrodes est composée d'éléments d'électrode (31A à 32C) disposés dans les sens droits et gauches. Les éléments d'électrode d'une rangée d'électrodes et ceux de l'autre rangée sont placés dans pratiquement les mêmes positions dans les sens droits et gauches. Chacun des éléments d'électrode de la rangée d'électrodes possède une polarité opposée à celle de l'élément d'électrode opposé respectif de l'autre rangée. Un espace entre les rangées (33p) est défini entre les surfaces opposées des éléments d'électrode des rangées d'électrodes. Chacun des deux éléments d'électrode contigus de chaque rangée d'électrodes possède une polarité contraire à celle de l'autre élément.
(JA)
【課題】 大面積の被処理物用のプラズマ処理装置において、電極のクーロン力による撓み量を低減し、表面処理の均一性を確保する。 【解決手段】 プラズマ処理装置の電極構造30Xは、左右にそれぞれ延びるとともに前後に互いに対峙する一対の電極列31X,32Xからなる。各電極列は、左右に並べられた複数の電極部材31A~32Cにて構成され、左右方向の実質的に同じ位置に配置された一方の電極列と他方の電極列の電極部材どうしが、互いに逆の極性を有して互いの対向面の間に列間部分隙間33pを形成している。さらに、各電極列の隣り合う電極部材どうしの極性が互いに逆になっている。
Également publié en tant que
US2006185594
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