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1. WO2005008548 - PROCEDE POUR TRANSMETTRE DES DONNEES CAO A UN SYSTEME D'INSPECTION DE PLAQUETTES

Numéro de publication WO/2005/008548
Date de publication 27.01.2005
N° de la demande internationale PCT/US2004/022209
Date du dépôt international 09.07.2004
CIB
G06F 17/50 2006.01
GPHYSIQUE
06CALCUL; COMPTAGE
FTRAITEMENT ÉLECTRIQUE DE DONNÉES NUMÉRIQUES
17Équipement ou méthodes de traitement de données ou de calcul numérique, spécialement adaptés à des fonctions spécifiques
50Conception assistée par ordinateur
CPC
G03F 1/36
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
1Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
36Masks having proximity correction features; Preparation thereof, e.g. optical proximity correction [OPC] design processes
G03F 1/84
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
1Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
82Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
84Inspecting
Déposants
  • APPLIED MATERIALS ISRAEL, LTD. [IL/IL]; 8 Oppenheimer Street 76236 Rohovot, IL (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NA, NE, NI, NL, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW)
  • APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; P.O. Box 450A Santa Clara, CA 95052, US (ZW)
  • NEHMADI, Youval [IL/IL]; IL (UsOnly)
  • PHUA, Josephine; US (UsOnly)
  • ORBAN, Jacob, Joseph, Jr.; US (UsOnly)
  • BEN-PORATH, Ariel [IL/IL]; IL (UsOnly)
  • LEVIN, Evgeni; US (UsOnly)
Inventeurs
  • NEHMADI, Youval; IL
  • PHUA, Josephine; US
  • ORBAN, Jacob, Joseph, Jr.; US
  • BEN-PORATH, Ariel; IL
  • LEVIN, Evgeni; US
Mandataires
  • FAHMI, Tarek; 12400 Wilshire Boulevard 7th Floor Los Angeles, CA 90025, US
Données relatives à la priorité
60/486,56511.07.2003US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHOD OF TRANSMITTING CAD DATA TO A WAFER INSPECTION SYSTEM
(FR) PROCEDE POUR TRANSMETTRE DES DONNEES CAO A UN SYSTEME D'INSPECTION DE PLAQUETTES
Abrégé
(EN)
A computer-implemented process for translating computer aided design (CAD) information regarding circuitry for an integrated circuit into one or more formats compatible for use with semiconductor wafer inspection equipment, and storing a translated version of said CAD information in a database accessible by said semiconductor wafer inspection equipment.
(FR)
L'invention concerne un procédé informatisé destiné à traduire des informations de conception assistée par ordinateur (CAO) concernant le circuit pour un circuit intégré dans un ou plusieurs formats compatibles avec un équipement d'inspection de plaquettes à semi-conducteurs, et le stockage d'une version traduite desdites informations CAO dans une base de données, ledit équipement d'inspection de plaquette à semi-conducteurs ayant accès à cette base de données.
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