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Paramétrages

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1. WO2005008334 - APPAREIL ET PROCEDE PERMETTANT D'EFFECTUER UN BALAYAGE A VITESSE ELEVEE AFIN DE DETECTER ET DE MESURER DES PROPRIETES DE DEFAUTS DE SOUS-LONGUEUR D'ONDE ET D'ARTEFACTS DANS UN SEMI-CONDUCTEUR ET METROLOGIE A MASQUE

Numéro de publication WO/2005/008334
Date de publication 27.01.2005
N° de la demande internationale PCT/US2004/021780
Date du dépôt international 07.07.2004
CIB
G01B 9/02 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
BMESURE DE LA LONGUEUR, DE L'ÉPAISSEUR OU DE DIMENSIONS LINÉAIRES ANALOGUES; MESURE DES ANGLES; MESURE DES SUPERFICIES; MESURE DES IRRÉGULARITÉS DES SURFACES OU CONTOURS
9Instruments tels que spécifiés dans les sous-groupes et caractérisés par l'utilisation de moyens de mesure optiques
02Interféromètres
CPC
G01N 2021/4709
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible or ultra-violet light
17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
47Scattering, i.e. diffuse reflection
4704Angular selective
4709Backscatter
G01N 2021/95676
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible or ultra-violet light
84Systems specially adapted for particular applications
88Investigating the presence of flaws or contamination
95characterised by the material or shape of the object to be examined
956Inspecting patterns on the surface of objects
95676Masks, reticles, shadow masks
G01N 21/4788
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible or ultra-violet light
17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
47Scattering, i.e. diffuse reflection
4788Diffraction
G01N 21/9501
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible or ultra-violet light
84Systems specially adapted for particular applications
88Investigating the presence of flaws or contamination
95characterised by the material or shape of the object to be examined
9501Semiconductor wafers
Déposants
  • ZETETIC INSTITUTE [US/US]; Suite 206 1665 East 18th Street Tucson, AZ 85719, US (AllExceptUS)
  • HILL, Henry, Allen [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs
  • HILL, Henry, Allen; US
Mandataires
  • PRAHL, Eric, L.; Wilmer Cutler Pickering Hale and Dorr LLP 60 State Street Boston, MA 02109, US
Données relatives à la priorité
60/485,50707.07.2003US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) APPARATUS AND METHOD FOR HIGH SPEED SCAN FOR DETECTION AND MEASUREMENT OF PROPERTIES OF SUB-WAVELENGTH DEFECTS AND ARTIFACTS IN SEMICONDUCTOR AND MASK METROLOGY
(FR) APPAREIL ET PROCEDE PERMETTANT D'EFFECTUER UN BALAYAGE A VITESSE ELEVEE AFIN DE DETECTER ET DE MESURER DES PROPRIETES DE DEFAUTS DE SOUS-LONGUEUR D'ONDE ET D'ARTEFACTS DANS UN SEMI-CONDUCTEUR ET METROLOGIE A MASQUE
Abrégé
(EN)
A method of detecting defects or artifacts on or in an object, wherein the defects or artifacts are characterized by a characteristic dimension, the method involving: generating an input beam for illuminating a spot at a selected location on or in the object, wherein the spot has a size L that is substantially larger than the characteristic dimension; deriving a measurement beam and a reference beam from the input beam; directing the measurement beam onto the object as an incident measurement beam that illuminates the spot at that selected location on or in the object to produce a backscattered measurement beam; interfering the backscattered measurement beam with the reference beam to produce an interference beam, the reference beam being oriented relative to the backscattered measurement beam so as to produce a peak sensitivity for a portion of the backscattered measurement beam that emanates from the object at a predetermined diffraction angle; converting the interference beam for that selected location into an interference signal; and using the interference signal for that selected location to determine whether any defects or artifacts characterized by said characteristic dimension are present anywhere within a region on or in the object defined by the spot at that selected location.
(FR)
L'invention concerne un procédé permettant de détecter des défauts ou des artefacts sur ou dans un objet, ces défauts ou artefacts étant caractérises par une dimension caractéristique. Ledit procédé consiste: à générer un faisceau d'entrée destiné à éclairer un point au niveau d'un emplacement sélectionné sur ou dans l'objet, ledit point possédant une taille L sensiblement plus grande que la dimension caractéristique; à dériver un faisceau de mesure et un faisceau de référence du faisceau d'entrée; à diriger ce faisceau de mesure sur l'objet comme un faisceau incident de mesure éclairant le point au niveau de l'emplacement sélectionné sur ou dans l'objet afin de produire un faisceau de mesure rétrodiffusé; à faire interférer le faisceau de mesure rétrodiffusé avec le faisceau de référence afin de produire un faisceau d'interférence, ce faisceau étant orienté par rapport au faisceau de mesure rétrodiffusé afin de produire une sensibilité maximale pour une partie du faisceau de mesure rétrodiffusé émanant de l'objet à un angle de diffraction prédéterminé; à convertir le faisceau d'interférence pour ledit emplacement sélectionné en un signal d'interférence; et à l'aide de ce signal d'interférence pour l'emplacement sélectionné, à déterminer si des défauts ou des artefacts quelconques caractérisés par une dimension caractéristique sont présents n'importe où dans une région sur ou dans l'objet défini par le point à cet emplacement sélectionné.
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