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1. WO2005003864 - APPAREIL ET PROCEDE POUR OBTENIR UN LIQUIDE CONFINE DANS LA LITHOGRAPHIE PAR IMMERSION

Numéro de publication WO/2005/003864
Date de publication 13.01.2005
N° de la demande internationale PCT/US2004/020332
Date du dépôt international 23.06.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 20.04.2005
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/70341
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70341Immersion
Y10S 134/902
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
134Cleaning and liquid contact with solids
902Semiconductor wafer
Déposants
  • LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway Fremont, CA 94538, US (AllExceptUS)
  • HEMKER, David [US/US]; US (UsOnly)
  • REDEKER, Fred, C. [US/US]; US (UsOnly)
  • BOYD, John [US/US]; US (UsOnly)
  • DE LARIOS, John, M. [US/US]; US (UsOnly)
  • RAVKIN, Michael [US/US]; US (UsOnly)
  • KOROLIK, Mikhail [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs
  • HEMKER, David; US
  • REDEKER, Fred, C.; US
  • BOYD, John; US
  • DE LARIOS, John, M.; US
  • RAVKIN, Michael; US
  • KOROLIK, Mikhail; US
Mandataires
  • MIZUMOTO, Edmund, H.; Martine & Penilla, LLP 710 Lakeway Drive, Suite 170 Sunnyvale, CA 94085, US
Données relatives à la priorité
10/606,02224.06.2003US
10/834,54828.04.2004US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) APPARATUS AND METHOD FOR PROVIDING A CONFINED LIQUID FOR IMMERSION LITHOGRAPHY
(FR) APPAREIL ET PROCEDE POUR OBTENIR UN LIQUIDE CONFINE DANS LA LITHOGRAPHIE PAR IMMERSION
Abrégé
(EN)
A method for processing a substrate is provided which includes generating a meniscus on the surface of the substrate and applying photolithography light through the meniscus to enable photolithography processing of a surface of the substrate.
(FR)
L'invention porte sur un procédé de traitement d'un substrat qui consiste à générer un ménisque sur la surface du substrat et à faire passer la lumière photolithographique dans le ménisque pour permettre le traitement d'une surface du substrat.
Également publié en tant que
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