Traitement en cours

Veuillez attendre...

PATENTSCOPE sera indisponible durant quelques heures pour des raisons de maintenance le dimanche 05.04.2020 à 10:00 AM CEST
Paramétrages

Paramétrages

1. WO2005003848 - PROCEDE PERMETTANT DE NETTOYER UNE SURFACE DE VERRE DANS LA FABRICATION D'UN AFFICHEUR A CRISTAUX LIQUIDES

Numéro de publication WO/2005/003848
Date de publication 13.01.2005
N° de la demande internationale PCT/KR2003/001335
Date du dépôt international 07.07.2003
CIB
G02F 1/13 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
FDISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
CPC
B08B 2203/005
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
08CLEANING
BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
2203Details of cleaning machines or methods involving the use or presence of liquid or steam
005the liquid being ozonated
B08B 3/08
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
08CLEANING
BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
3Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
04Cleaning involving contact with liquid
08the liquid having chemical or dissolving effect
C02F 1/001
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
1Treatment of water, waste water, or sewage
001Processes for the treatment of water whereby the filtration technique is of importance
C02F 1/78
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
1Treatment of water, waste water, or sewage
72by oxidation
78with ozone
C02F 2103/346
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
2103Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
34from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32
346from semiconductor processing, e.g. waste water from polishing of wafers
C02F 2201/782
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
2201Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
78Details relating to ozone treatment devices
782Ozone generators
Déposants
  • SFA ENGINEERING CORP. [KR/KR]; 42-7, Palyoung-dong, Changwon-shi Kyungsangnamdo 641-847, KR (AllExceptUS)
  • KWAK, Il Soon [KR/KR]; KR (UsOnly)
  • LEE, Jae Bok [KR/KR]; KR (UsOnly)
Inventeurs
  • KWAK, Il Soon; KR
  • LEE, Jae Bok; KR
Mandataires
  • KIM, Heegon; Room 901 Doorea Bldg. 24 Yeouido-dong Yeongdeungpo-gu Seoul 150-877, KR
Données relatives à la priorité
10-2003-4409601.07.2003KR
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt coréen (KO)
États désignés
Titre
(EN) THE PROCESS FOR CLEANING A GLASS SURFACE IN MANUFACTURING LCD
(FR) PROCEDE PERMETTANT DE NETTOYER UNE SURFACE DE VERRE DANS LA FABRICATION D'UN AFFICHEUR A CRISTAUX LIQUIDES
Abrégé
(EN)
The present invention relates to a method of cleaning an LCD substrate, and more particularly, to a method of cleaning an LCD substrate using ozonized-electrolyzed water and ultrasonic wave. A method of cleaning an LCD substrate according to the present invention comprises steps of producing electrolyzed water using an electrolyzed water generator, producing ozonized water using an ozonized water generator, mixing and agitating the electrolyzed water and the ozonized water to produce the ozonized-electrolyzed water, activating the ozonized-electrolyzed water using an ultrasonic wave generator, cleaning the LCD substrate by spraying the activated ozonized-electrolyzed water onto the LCD substrate using an ozonized-electrolyzed water spraying unit, and recovering and filtering off the ozonized-electrolyzed water used in the LCD substrate cleaning step so as to be reused in the electrolyzed water producing process.
(FR)
L'invention concerne un procédé permettant de nettoyer un substrat d'afficheur à cristaux liquides et, plus particulièrement, un procédé permettant de nettoyer un substrat d'afficheur à cristaux liquides au moyen d'eau ozonée-électrolysée. Le procédé selon l'invention consiste à produire de l'eau électrolysée au moyen d'un générateur d'eau électrolysée, à produire de l'eau ozonée au moyen d'un générateur d'eau ozonée, à mélanger et à agiter l'eau électrolysée et l'eau ozonée afin de produire de l'eau ozonée-électrolysée, à activer l'eau ozonée-électrolysée au moyen d'un générateur d'ondes ultrasonores, à nettoyer le substrat d'afficheur à cristaux liquides en pulvérisant l'eau ozonée-électrolysée activée sur le substrat d'afficheur à cristaux liquides au moyen d'une unité de pulvérisation d'eau ozonée-électrolysée et à récupérer et filtrer l'eau ozonée-électrolysée utilisée dans l'étape de nettoyage du substrat d'afficheur à cristaux liquides de façon à être réutilisée dans le processus de production d'eau électrolysée.
Également publié en tant que
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international