Traitement en cours

Veuillez attendre...

PATENTSCOPE sera indisponible durant quelques heures pour des raisons de maintenance le dimanche 05.04.2020 à 10:00 AM CEST
Paramétrages

Paramétrages

1. WO2005001893 - ARCHITECTURE POUR SYSTEME DE TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEURS PROGRAMMABLE A USAGE GENERAL ET PROCEDES CORRESPONDANTS

Numéro de publication WO/2005/001893
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/US2004/016414
Date du dépôt international 24.05.2004
CIB
G06F 19/00 2006.01
GPHYSIQUE
06CALCUL; COMPTAGE
FTRAITEMENT ÉLECTRIQUE DE DONNÉES NUMÉRIQUES
19Équipement ou méthodes de traitement de données ou de calcul numérique, spécialement adaptés à des applications spécifiques
CPC
G05B 19/418
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
19Programme-control systems
02electric
418Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS], computer integrated manufacturing [CIM]
G05B 2219/32128
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
2219Program-control systems
30Nc systems
32Operator till task planning
32128Gui graphical user interface
G05B 2219/35262
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
2219Program-control systems
30Nc systems
35Nc in input of data, input till input file format
35262Macro instruction, canned cycles, subroutines, subprogram
G05B 2219/45031
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
2219Program-control systems
30Nc systems
45Nc applications
45031Manufacturing semiconductor wafers
H01L 21/67276
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
67276Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
Y02P 90/02
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
90Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
02Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
Déposants
  • LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway Freemont, CA 95438-6470, US
  • PATRICK, Roger [US/US]; US (UsOnly)
  • WONG, Vincent [US/US]; US (UsOnly)
  • HUANG, Chung Ho [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs
  • PATRICK, Roger; US
  • WONG, Vincent; US
  • HUANG, Chung Ho; US
Mandataires
  • NGUYEN, Joseph, A.; IPSG, P.C. P.O. Box 700640 San Jose, CA 95170-0640, US
Données relatives à la priorité
10/460,87913.06.2003US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) ARCHITECTURE FOR GENERAL PURPOSE PROGRAMMABLE SEMICONDUCTOR PROCESSING SYSTEM AND METHODS THEREFOR
(FR) ARCHITECTURE POUR SYSTEME DE TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEURS PROGRAMMABLE A USAGE GENERAL ET PROCEDES CORRESPONDANTS
Abrégé
(EN)
A process for creating macros is shown, according to one embodiment of the invention. Initially, a library of macro procedures (102) is created for use in a semi-conductor processing system. For example, in a plasma processing system, this library can consist of tool health checks such as daily and weekly preventative maintenance (PM) qualifications, wet clean and recovery, hardware start-up qualification, chamber matching, and troubleshooting. This library may then be uploaded to the software control program (106) of a semi-conductor processing system. In one embodiment, the semi-conductor processing system comprises a macro engine 108 that interprets macro procedures. In another embodiment, the semi-conductor processing system comprises a macro engine (108) that executes macro procedures. Each of these macro procedures can then be performed in proper sequence by macro engine (108). During operation, the semi-conductor processing system, in turn, examines its state and compares the result to established specifications, or requests that the operator input information. Macro engine 108 may further compare tool data with macro specifications, and may generate and locally store (110) an electronic summary report, a tool performance tracking report, and/or raw data log format. In one embodiment, each report may be in a web-based output format, such as XML or HTML.
(FR)
L'invention concerne un procédé pour optimiser un ensemble d'étapes dans un système de traitement de semi-conducteurs comprenant un logiciel de commande. Ce système de traitement de semi-conducteurs présente une première fonction, une deuxième fonction, et une troisième fonction, et comprend en outre une mémoire servant à stocker un ensemble de variables. L'ensemble d'étapes comprend une première étape, une deuxième étape, et une troisième étape. Le procédé selon l'invention consiste à: créer la première étape sur une application de l'éditeur, la première fonction étant ajoutée au cours de la première étape, et, si nécessaire, un premier ensemble d'instructions entrées par l'utilisateur est ajouté; créer la deuxième étape sur l'application de l'éditeur, la deuxième fonction étant ajoutée au cours de la deuxième étape, et, si nécessaire, un deuxième ensemble d'instructions entrées par l'utilisateur est ajouté; et créer la troisième étape sur l'application de l'éditeur, la troisième fonction étant ajoutée au cours de la troisième étape, et, si nécessaire, un troisième ensemble d'instructions entrées par l'utilisateur est ajouté. Le procédé selon l'invention consiste également à: placer la première étape, la deuxième étape, et la troisième étape, dans un ordre correct; transférer l'ensemble des étapes au système de traitement de semi-conducteurs; exécuter l'ensemble des étapes; mémoriser un ensemble de résultats dans l'ensemble de variables; et, si nécessaire, établir un rapport à partir de l'ensemble des variables.
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international