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Paramétrages

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1. WO2005001576 - COMPOSITION PHOTOSENSIBLE POSITIVE

Numéro de publication WO/2005/001576
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/JP2004/009007
Date du dépôt international 25.06.2004
CIB
G03F 7/00 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G03F 7/004 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
G03F 7/039 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
039Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
CPC
B41C 1/1008
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
1Forme preparation
10for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
1008by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
B41C 2210/02
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
2210Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
02Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
B41C 2210/06
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
2210Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
06Developable by an alkaline solution
B41C 2210/22
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
2210Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
22characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
B41C 2210/24
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
2210Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
24characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
B41C 2210/26
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
2210Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
26characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
Déposants
  • 株式会社シンク・ラボラトリー THINK LABORATORY CO., LTD. [JP/JP]; 〒2778525 千葉県柏市高田1201−11 Chiba 1201-11, Takada, Kashiwa-shi, Chiba 2778525, JP (AllExceptUS)
  • 佐藤勉 SATO, Tsutomu [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 佐藤勉 SATO, Tsutomu; JP
Mandataires
  • 石原 詔二 ISHIHARA, Shoji; 〒1700013 東京都豊島区東池袋3丁目7番8号 若井ビル302号 石原國際特許事務所内 Tokyo c/o Ishihara International Patent Firm No. 302, Wakai Bldg. 7-8, Higashi-Ikebukuro 3-chome, Toshima-ku, Tokyo 1700013, JP
Données relatives à la priorité
2003-18901330.06.2003JP
2003-19088503.07.2003JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE POSITIVE
(JA) ポジ型感光性組成物
Abrégé
(EN)
A positive photosensitive composition that does not need burning, provides as satisfactory adhesion as needed upon coating in 25 to 60% humidity and can be developed at low alkali strength, which positive photosensitive composition further retains high sensitivity, enables development not generating residues and realizes cut with sharp profile, providing a very hard resist film capable of enhancing scuffing resistance in handling prior to development. This positive photosensitive composition comprises as indispensable components (A) a polymeric substance having at least one carboxyl in each molecule thereof and (B) a photothermal conversion substance capable of absorbing infrared radiation from an image exposure radiation source and converting the absorbed radiation to heat.
(FR)
L'invention concerne une composition photosensible positive qui ne nécessite pas de cuisson, présente une adhérence satisfaisante après enduction dans 25 à 60 % d'humidité et peut être développée à faible puissance alcaline. Cette composition photosensible positive présente en outre une grande sensibilité, permet un développement ne générant pas de déchets et une coupe à profil tranchant, fournissant ainsi un film de résine très dur, apte à augmenter la résistance à l'abrasion lors de la manipulation antérieure au développement. Ladite composition photosensible positive comprend comme éléments indispensables (A) une substance polymère, dotée d'au moins un groupe carboxyle dans chaque molécule, et (B) une substance de conversion photothermique capable d'absorber le rayonnement infrarouge émis par une source de rayonnement d'exposition d'image et de convertir le rayonnement absorbé en chaleur.
(JA)
 バーニング不要で湿度が25~60%の条件で塗布して必要十分な密着性が得られ、低いアルカリ強度で現像が可能であり、高感度が保たれ残渣が生じない現像ができて、シャープな輪郭で切れ、レジスト膜が非常に硬くて現像前の取り扱いにおける耐傷性が向上するポジ型感光性組成物を提供する。(A)分子中に少なくとも1つのカルボキシル基を有する高分子物質、及び(B)画像露光光源の赤外線を吸収して熱に変換する光熱変換物質を必須成分として含有するようにした。
Également publié en tant que
US2006222998
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