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1. WO2005001572 - APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF

Numéro de publication WO/2005/001572
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/EP2004/006875
Date du dépôt international 25.06.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 26.01.2005
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/70341
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70341Immersion
Déposants
  • ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven, NL (AllExceptUS)
  • KOLESNYCHENKO, Aleksey, Yurievich [UA/NL]; NL (UsOnly)
Inventeurs
  • KOLESNYCHENKO, Aleksey, Yurievich; NL
  • VAN DER WERF, Jan, Evert; NL
Mandataires
  • LEEMING, John, Gerard ; J.A. Kemp & Co. 14 South Square Gray's Inn London WC1R 5JJ, GB
Données relatives à la priorité
03254116.127.06.2003EP
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abrégé
(EN)
Liquid is supplied to a space between the final element of the projection system and the substrate, but there is a space between the liquid and the substrate. An evanescent field is formed between the liquid and the substrate allowing some photons to expose the substrate. Due to the refractive index of the liquid, the resolution of the system is improved and liquid on the substrate is avoided.
(FR)
Un liquide est alimenté dans un espace entre l'élément final d'un système de projection et le substrat, mais il subsiste un espace entre le liquide et le substrat. Un champ évanescent est formé entre le liquide et le substrat permettant l'exposition du substrat par quelques photons. Grâce à l'indice de réfraction du liquide, la résolution du système est amélioré et la présence de liquide sur le substrat est évitée.
Également publié en tant que
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