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Paramétrages

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1. WO2005001545 - EMPILEMENT PRECURSEUR DE FILMS MINCES UTILISE DANS LA FABRICATION DE MEMS

Numéro de publication WO/2005/001545
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/US2004/020330
Date du dépôt international 23.06.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 22.04.2005
CIB
G02B 26/00 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
26Dispositifs ou systèmes optiques utilisant des éléments optiques mobiles ou déformables pour commander l'intensité, la couleur, la phase, la polarisation ou la direction de la lumière, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation
CPC
B81B 2201/047
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
2201Specific applications of microelectromechanical systems
04Optical MEMS
047Optical MEMS not provided for in B81B2201/042 - B81B2201/045
B81C 1/00182
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
CPROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
1Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
00015for manufacturing microsystems
00134comprising flexible or deformable structures
00182Arrangements of deformable or non-deformable structures, e.g. membrane and cavity for use in a transducer
B81C 1/0038
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
CPROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
1Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
00349Creating layers of material on a substrate
0038Processes for creating layers of materials not provided for in groups B81C1/00357 - B81C1/00373
Déposants
  • IDC, LLC [US/US]; 2415 Third Street San Francisco, CA 94107, US (AllExceptUS)
  • MILES, Mark, W. [US/US]; US (UsOnly)
  • GALLY, Brian, J. [US/US]; US (UsOnly)
  • CHUI, Clarence [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs
  • MILES, Mark, W.; US
  • GALLY, Brian, J.; US
  • CHUI, Clarence; US
Mandataires
  • MALLON, Joseph, J.; Knobbe, Martens, Olson & Bear, LLP 2040 Main Street, 14th Floor Irvine, CA 92614, US
Données relatives à la priorité
10/606,00124.06.2003US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) THIN FILM PRECURSOR STACK FOR MEMS MANUFACTURING
(FR) EMPILEMENT PRECURSEUR DE FILMS MINCES UTILISE DANS LA FABRICATION DE MEMS
Abrégé
(EN)
This invention provides a precursor film stack for use in the production of MEMS devices. The precursor film stack comprises a carrier substrate, a first layer formed on the carrier substrate, a second layer of an insulator material formed on the first layer, and a third layer of a sacrificial material formed on the second layer.
(FR)
L'invention concerne un empilement précurseur de films utilisé dans la production de dispositifs MEMS. L'empilement précurseur de films comprend un sustrat de support, une première couche formée sur le substrat de support, une deuxième couche faite d'un matériau isolant formée sur la première couche, et une troisième couche faite d'un matériau sacrificiel formée sur la deuxième couche.
Également publié en tant que
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international