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Paramétrages

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1. WO2005001544 - UNITE OPTIQUE, SYSTEME OPTIQUE DE FORMATION D'IMAGE, PROCEDE DE REGLAGE D'ABERRATION D'UN SYSTEME OPTIQUE DE FORMATION D'IMAGE, SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION, PROCEDE DE PRODUCTION DE SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION, APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE D'EXPOSITION

Numéro de publication WO/2005/001544
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/JP2004/008733
Date du dépôt international 22.06.2004
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/70341
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70341Immersion
Déposants
  • 株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 〒1008331 東京都千代田区丸の内三丁目2番3号 Tokyo 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
  • 大村 泰弘 OMURA, Yasuhiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 藤島 洋平 FUJISHIMA, Youhei [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 大村 泰弘 OMURA, Yasuhiro; JP
  • 藤島 洋平 FUJISHIMA, Youhei; JP
Mandataires
  • 山口 孝雄 YAMAGUCHI, Takao; 〒1010048 東京都千代田区神田司町二丁目10番地 第一ビル Tokyo Daiichi Bldg., 10, Kanda-tsukasacho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010048, JP
Données relatives à la priorité
2003-18288626.06.2003JP
2004-02003628.01.2004JP
2004-14631017.05.2004JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) OPTICAL UNIT, IMAGE-FORMING OPTICAL SYSTEM, METHOD FOR ADJUSTING ABERRATION OF IMAGE-FORMING OPTICAL SYSTEM, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, METHOD FOR PRODUCING PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD
(FR) UNITE OPTIQUE, SYSTEME OPTIQUE DE FORMATION D'IMAGE, PROCEDE DE REGLAGE D'ABERRATION D'UN SYSTEME OPTIQUE DE FORMATION D'IMAGE, SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION, PROCEDE DE PRODUCTION DE SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION, APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE D'EXPOSITION
(JA) 光学ユニット、結像光学系、結像光学系の収差調整方法、投影光学系、投影光学系の製造方法、露光装置、および露光方法
Abrégé
(EN)
An optical unit for liquid immersion change attachable to a dry-type image-forming optical system for forming the image of an object through a gas and used for changing the dry-type image forming optical system to a liquid-immersed-type image-forming optical system for forming the image of the object through a liquid. This optical unit comprises at lease one optical member interchangeable with an optical member disposed on the image side of the optical surface that has a predetermined refractive power and is disposed closest to the image side, among the optical surfaces having a refractive power and arranged in the dry-type image-forming optical system. By interchanging the optical member of the dry-type image-forming optical system with the at lease one optical member, the degradation of the image-forming characteristic of the image forming optical system caused by the change of the medium kind on the image side of the image-forming optical system from a gas to a liquid is reduced.
(FR)
L'invention concerne une unité optique pouvant passer à un mode d'immersion liquide, se fixant à un système optique de formation d'image à sec pour la formation de l'image d'un objet dans un gaz, et utilisée pour modifier le système optique de formation d'image à sec en un système optique de formation d'image à immersion de liquide en vue de la formation de l'image d'un objet dans un liquide. Cette unité optique comprend au moins un élément optique interchangeable avec un élément optique placé du côté image de la surface optique possédant un indice de réfraction prédéterminé et placée plus près du côté image, parmi les surfaces optiques possédant un certain indice de réfraction et prévues dans un système optique de formation d'image du type sèche. L'échange de l'élément optique du système optique de formation d'image à sec avec le ou les éléments optiques, permet de réduire la dégradation de la caractéristique de formation d'image du système optique de formation d'image, induite par le changement de milieu du côté image du système optique de formation d'image du gaz au liquide.
(JA)
 物体の像を気体を介して形成する乾燥型の結像光学系に取り付け可能に構成されて、前記物体の像を液体を介して形成する液浸型の結像光学系に変更するための液浸変更用の光学ユニットである。この光学ユニットは、前記乾燥型の結像光学系中の屈折力を有する光学面のうちの最も像側に配置される所定の屈折力を有する光学面の像側に配置される光学部材と交換可能に設けられた少なくとも1つの光学部材を備える。そして、前記乾燥型の結像光学系中の前記光学部材を前記少なくとも1つの光学部材に交換することにより、前記結像光学系の像側の媒質の種類が気体から液体に変更されることに起因して発生する前記結像光学系の結像特性の劣化を低減する。
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