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1. WO2005001526 - PROCEDE DE PRODUCTION D'UN DISPOSITIF OPTIQUE MULTICOUCHES

Numéro de publication WO/2005/001526
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/JP2004/008835
Date du dépôt international 17.06.2004
CIB
G02B 5/28 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
20Filtres
28Filtres d'interférence
CPC
G02B 5/285
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
20Filters
28Interference filters
285comprising deposited thin solid films
Déposants
  • 株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 〒1008331 東京都千代田区丸の内三丁目2番3号 Tokyo 2-3, Marunouchi 3-Chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
  • 吉野 邦彦 YOSHINO, Kunihiko [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 吉野 邦彦 YOSHINO, Kunihiko; JP
Mandataires
  • 細江 利昭 HOSOE, Toshiaki; 〒2210822 神奈川県横浜市神奈川区西神奈川一丁目3番6号 コーポフジ605 Kanagawa Corpo Fuji 605 3-6, Nishikanagawa 1-chome Kanagawa-ku Yokohama-shi, Kanagawa 2210822, JP
Données relatives à la priorité
2003-18245026.06.2003JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR PRODUCING MULTILAYER OPTICAL DEVICE
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN DISPOSITIF OPTIQUE MULTICOUCHES
(JA) 多層膜光学素子の製造方法
Abrégé
(EN)
An aluminum film (2) is formed on a glass substrate (BK7) (1) by vacuum deposition, and a multilayer optical thin film (3) is formed thereon by ion sputtering. The thus-obtained member is cut into small pieces by dicing, and then the aluminum film (2) is etched using a sodium hydrate solution, thereby separating the glass substrate (1) and the multilayer optical thin film (3) from each other. When the thickness of aluminum is more than 90 nm, a white turbidity appears in the multilayer optical thin film (3). Meanwhile, when the thickness of aluminum is less than 10 nm, a neat separation cannot be made between the glass substrate and the multilayer optical thin film. Consequently, the thickness of the aluminum film is set within the range of 10-90 nm.
(FR)
La présente invention concerne un procédé selon lequel on forme un film d'aluminium (2) sur un substrat en verre (BK7) (1) par dépôt sous vide, film d'aluminium sur lequel on forme un mince film optique multicouches (3) par pulvérisation par bombardement ionique. On coupe alors l'élément obtenu en petits dés, et l'on grave alors le film d'aluminium (2) à l'aide d'une solution d'hydrate de sodium, ce qui permet de séparer le mince film optique multicouches (3) du substrat en verre (1). Lorsque l'épaisseur de l'aluminium est supérieure à 90 nm, un trouble blanc apparaît dans le mince film optique multicouches (3). Lorsque l'épaisseur de l'aluminium est inférieure à 10 nm, il n'est pas possible d'obtenir une séparation nette entre le substrat en verre et le mince film optique multicouches (3). C'est pourquoi l'épaisseur du film d'aluminium doit être comprise entre 10 et 90 nm.
(JA)
 ガラス基板(BK7)1の上にアルミニウム2を真空蒸着により成膜し、その上に、多層光学薄膜3を、イオンスパッタリング法により成膜した。その後、ダイシングにより、このような部材を小さく切り分けた後、水酸化ナトリウム溶液によりアルミニウム2をエッチングし、ガラス基板1と多層光学薄膜3とを分離した。アルミニウム厚さが90nmを超えると、多層光学薄膜3に白濁が発生し、アルミニウム厚さが10nm未満となるとガラス基板と多層光学薄膜の分離がきれいに行われなかった。よって、アルミニウム厚さを10~90nmの範囲とするようにした。
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