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Paramétrages

Paramétrages

1. WO2005001456 - PROCEDE DE VERIFICATION DE COMPARAISON DE MOTIFS ET DISPOSITIF DE VERIFICATION DE COMPARAISON DE MOTIFS

Numéro de publication WO/2005/001456
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/JP2004/009503
Date du dépôt international 29.06.2004
CIB
G01N 21/95 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
95caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
G01N 21/956 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
95caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
956Inspection de motifs sur la surface d'objets
CPC
G01N 21/95607
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible or ultra-violet light
84Systems specially adapted for particular applications
88Investigating the presence of flaws or contamination
95characterised by the material or shape of the object to be examined
956Inspecting patterns on the surface of objects
95607using a comparative method
G03F 7/7065
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70483Information management, control, testing, and wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
70616Wafer pattern monitoring, i.e. measuring printed patterns or the aerial image at the wafer plane
7065Defect inspection
G06T 2207/30148
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
2207Indexing scheme for image analysis or image enhancement
30Subject of image; Context of image processing
30108Industrial image inspection
30148Semiconductor; IC; Wafer
G06T 7/001
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
7Image analysis
0002Inspection of images, e.g. flaw detection
0004Industrial image inspection
001using an image reference approach
Déposants
  • 株式会社東京精密 Tokyo Seimitsu Co., Ltd. [JP/JP]; 〒1818515 東京都三鷹市下連雀九丁目7番1号 Tokyo 7-1, Shimorenjaku 9-chome, Mitaka-shi, Tokyo 1818515, JP (AllExceptUS)
  • 石川 明夫 ISHIKAWA, Akio [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 石川 明夫 ISHIKAWA, Akio; JP
Mandataires
  • 青木 篤 AOKI, Atsushi; 〒1058423 東京都港区虎ノ門三丁目5番1号 虎ノ門37森ビル 青和特許法律事務所 Tokyo A. AOKI, ISHIDA & ASSOCIATES, Toranomon 37 Mori Bldg., 5-1, Toranomon 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1058423, JP
Données relatives à la priorité
2003-18747930.06.2003JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) PATTERN COMPARISON INSPECTION METHOD AND PATTERN COMPARISON INSPECTION DEVICE
(FR) PROCEDE DE VERIFICATION DE COMPARAISON DE MOTIFS ET DISPOSITIF DE VERIFICATION DE COMPARAISON DE MOTIFS
(JA) パターン比較検査方法およびパターン比較検査装置
Abrégé
(EN)
A pattern comparison inspection device includes: position-to-be-judged selection means (41) for selecting a position-to-be-judged to be judged to be contained or not contained in the inspection area from a certain position on the pattern-to-be-inspected; image comparison means (42) for comparing an image signal of the position-to-be-judged to an image signal at a position at a distance of integral multiple of repetition pitch from the position-to-be judged; and inspection area setting means (43) for setting an inspection area containing the position-to-be-judged in the inspection area when the comparison result of the image comparison means is within a predetermined threshold value. Thus, in the pattern comparison inspection device for inspecting presence/absence of a pattern defect by comparing the repetition patterns in the pattern-to-be-inspected having a repetition pattern area, it is possible to enlarge the inspection area within a range of the repetition pattern area.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de vérification de comparaison de motifs comprenant : des moyens de sélection d'une position à estimer (41) en vue de sélectionner la position estimée être contenue, ou non, dans l'aire de vérification, à partir d'une certaine position sur le motif qui doit être vérifié ; des moyens de comparaison d'image (42) pour la comparaison d'un signal image de la position à estimer sur un signal image, en une position à une distance d'un multiple entier du pas de répétition à partir de la position à estimer ; ainsi que des moyens d'ajustement de l'aire de vérification (43), en vue d'établir une aire de vérification contenant la position à estimer dans l'aire de vérification, lorsque le résultat de comparaison des moyens de comparaison de l'image se situe dans une valeur seuil prédéterminée. De cette façon, dans le dispositif de vérification de comparaison des motifs, destiné à la vérification de la présence/ou de l'absence/ d'un défaut de motif, par comparaison des motifs de répétition dans le motif qui doit être estimé ayant une aire de motifs de répétition, il est possible d'agrandir l'aire de vérification au sein d'un intervalle de l'aire de motif de répétition.
(JA)
パターン比較検査装置を、検査領域内に含めるべきか否かを判定する被判定位置を被検査パターン上のいずれかから選択する被判定位置選択手段(41)と、被判定位置の画像信号と、被判定位置から繰り返しピッチの整数倍離れた位置の画像信号とを比較する画像比較手段(42)と、画像比較手段の比較結果が所定のしきい値内にあるとき、被判定位置を検査領域内に含めて検査領域を設定する検査領域設定手段(43)とを備えて構成する。これにより、繰り返しパターン領域を有する被検査パターン内の、繰り返しパターンどうしを比較してパターン欠陥の有無を検査するパターン比較検査装置において、繰り返しパターン領域の範囲内において、検査領域を拡大することが可能となる。
Également publié en tant que
US2006280358
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