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Paramétrages

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1. WO2005001432 - FLUIDES OPTIQUES, SYSTEMES ET PROCEDES DE FABRICATION ET D'UTILISATION DE CEUX-CI

Numéro de publication WO/2005/001432
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/US2004/009006
Date du dépôt international 24.03.2004
CIB
C07C 41/52 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
CCOMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
41Préparation d'éthers; Préparation de composés comportant des groupes , des groupes ou des groupes
48Préparation de composés comportant des groupes
50par des réactions donnant des groupes
52uniquement par substitution d'atomes d'halogène
G02B 1/04 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
1Eléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques
04faits de substances organiques, p.ex. plastiques
G02B 1/12 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
1Eléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques
10Revêtements optiques obtenus par application sur les éléments optiques ou par traitement de la surface de ceux-ci
12par traitement de la surface, p.ex. par irradiation
G02B 5/00 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
G03C 5/04 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
CMATÉRIAUX PHOTOSENSIBLES POUR LA PHOTOGRAPHIE; PROCÉDÉS PHOTOGRAPHIQUES, p.ex. PROCÉDÉS CINÉMATOGRAPHIQUES, AUX RAYONS X, EN COULEURS OU STÉRÉOPHOTOGRAPHIQUES; PROCÉDÉS AUXILIAIRES EN PHOTOGRAPHIE
5Procédés photographiques ou agents à cet effet; Régénération de tels agents de traitement
04Procédés de prise de vues
G03F 7/00 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
CPC
G03F 7/2041
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
2041in the presence of a fluid, e.g. immersion; using fluid cooling means
G03F 7/70341
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70341Immersion
Déposants
  • MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 77 Massachusetts Avenue Cambridge, MA 02139, US (AllExceptUS)
  • KUNZ, Roderick, R.; US (UsOnly)
  • SINTA, Roger; US (UsOnly)
  • SWITKES, Michael; US (UsOnly)
Inventeurs
  • KUNZ, Roderick, R.; US
  • SINTA, Roger; US
  • SWITKES, Michael; US
Mandataires
  • TAFT, Kingsley, L. ; Patent Group Foley Hoag LLP 155 Seaport Boulevard Boston, MA 02210-2698, US
Données relatives à la priorité
10/395,70324.03.2003US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) OPTICAL FLUIDS, AND SYSTEMS AND METHODS OF MAKING AND USING THE SAME
(FR) FLUIDES OPTIQUES, SYSTEMES ET PROCEDES DE FABRICATION ET D'UTILISATION DE CEUX-CI
Abrégé
(EN)
The present invention is directed towards a fluid composition comprising a perfluoroehter compound; the fluid composition has an absorbance of less than about 2 cm-1 at a wavelength of about 157 nm. The present invention also comprises an optical system, a semiconductor device, and methods of modifying a silicon wafer, each employing the fluid composition comprising the perfluorether compound.
(FR)
La présente invention concerne, en partie, une composition de fluide, des systèmes et des procédés de fabrication et d'utilisation de ceux-ci, cette composition de fluide possédant une absorbance inférieure à 2 cm-1.
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international