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Paramétrages

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1. WO2005000992 - MATIERE DE POLISSAGE A BASE DE CERIUM ET MATIERES BRUTES ASSOCIEES

Numéro de publication WO/2005/000992
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/JP2004/004407
Date du dépôt international 29.03.2004
CIB
C01F 17/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
01CHIMIE INORGANIQUE
FCOMPOSÉS DE BÉRYLLIUM, MAGNÉSIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARYUM, RADIUM, THORIUM OU COMPOSÉS DES MÉTAUX DES TERRES RARES
17Composés des métaux des terres rares
CPC
C01F 17/206
CCHEMISTRY; METALLURGY
01INORGANIC CHEMISTRY
FCOMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
17Compounds of rare earth metals
20Compounds containing only rare earth metals as the metal element
206oxide or hydroxide being the only anion
C01F 17/30
CCHEMISTRY; METALLURGY
01INORGANIC CHEMISTRY
FCOMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
17Compounds of rare earth metals
30Compounds containing rare earth metals and at least one element other than a rare earth metal, oxygen or hydrogen, e.g. La4S3Br6
C09K 3/1409
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
3Materials not provided for elsewhere
14Anti-slip materials; Abrasives
1409Abrasive particles per se
C09K 3/1463
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
3Materials not provided for elsewhere
14Anti-slip materials; Abrasives
1454Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
1463Aqueous liquid suspensions
Déposants
  • 三井金属鉱業株式会社 MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD. [JP/JP]; 〒1418584 東京都品川区大崎一丁目11番1号 Tokyo 1-11-1, Osaki Shinagawa-ku, Tokyo 1418584, JP (AllExceptUS)
  • 小林 大作 KOBAYASHI, Daisaku [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 内野 義嗣 UCHINO, Yoshitsugu [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 山﨑 秀彦 YAMASAKI, Hidehiko [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 小林 大作 KOBAYASHI, Daisaku; JP
  • 内野 義嗣 UCHINO, Yoshitsugu; JP
  • 山﨑 秀彦 YAMASAKI, Hidehiko; JP
Mandataires
  • 田中 大輔 TANAKA, Daisuke; 〒1130033 東京都文京区本郷1丁目15番2号 第1三沢ビル Tokyo No.1 Misawa Bldg., 15-2, Hongo 1-chome Bunkyo-ku, Tokyo 1130033, JP
Données relatives à la priorité
2003-18728030.06.2003JP
2003-18728130.06.2003JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) CERIUM BASED POLISHING MATERIAL AND RAW MATERIALS THEREFOR
(FR) MATIERE DE POLISSAGE A BASE DE CERIUM ET MATIERES BRUTES ASSOCIEES
(JA) セリウム系研摩材およびその原料
Abrégé
(EN)
A cerium-based polishing material which comprises cerium oxide (CeO2), lanthanum oxide (La2O3) and neodymium oxide(Nd2O3), as rare earth element oxides, and also fluorine (F), characterized in that it has a proportion in weight of the total rare earth elements in terms of oxide (TREO) of 90 wt % or more, a proportion of the weight of cerium oxide in the weight of the total rare earth elements in terms of oxide (CeO2/TREO) is 50 to 65 wt %, and a proportion of the weight of neodymium oxide in the weight of the total rare earth elements in terms of oxide (Nd2O3/TREO) is 10 to 16 wt %. The cerium-based polishing material has excellent polishing characteristics such as the reduction in the generation of flaws and also exhibits enhanced polishing speed.
(FR)
L'invention concerne une matière de polissage à base de cérium comprenant de l'oxyde de cérium (CeO2), de l'oxyde de lanthane (La2O3) et de l'oxyde de néodyme (Nd2O3) comme oxydes de terres rares, ainsi que du fluor (F). Cette matière se caractérise en ce qu'elle présente une proportion en poids d'oxyde de terres rares total (TREO) supérieure ou égale à 90 % en poids. Le rapport entre le poids de l'oxyde de cérium et le poids de l'oxyde de terres rares total (CeO2/TREO) est compris entre 50 et 65 % en poids, et le rapport entre le poids de l'oxyde de néodyme et le poids de l'oxyde de terres rares total (Nd2O3/TREO) est compris entre 10 et 16 % en poids. Cette matière de polissage à base de cérium possède d'excellentes caractéristiques de polissage et permet notamment de réduire la génération de défauts. En outre, elle présente une vitesse de polissage accrue.
(JA)
本発明は、傷の発生がより少ないなど優れた研摩特性を有しており、研摩速度がより高いセリウム系研摩材を提供するものである。希土類酸化物として少なくとも酸化セリウム(CeO)、酸化ランタン(La)および酸化ネオジム(Nd)を含み、フッ素(F)を含有するセリウム系研摩材であり、当該研摩材において、全希土類酸化物(TREO)を90wt%以上にすると共に、TREOに占める酸化セリウムの重量の割合(CeO/TREO)を50wt%~65wt%にし、さらにTREOに占める酸化ネオジムの重量の割合(Nd/TREO)を10wt%~16wt%にする。このようなセリウム系研摩材を用いると研摩傷の発生が少ない研摩面が迅速に得られる。
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