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Paramétrages

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1. WO2005000526 - TAMPON DE POLISSAGE PRESENTANT UNE STRUCTURE A PORES ORIENTES

Numéro de publication WO/2005/000526
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/US2004/017600
Date du dépôt international 03.06.2004
CIB
B24B 37/04 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24MEULAGE; POLISSAGE
BMACHINES, DISPOSITIFS OU PROCÉDÉS POUR MEULER OU POUR POLIR; DRESSAGE OU REMISE EN ÉTAT DES SURFACES ABRASIVES; ALIMENTATION DES MACHINES EN MATÉRIAUX DE MEULAGE, DE POLISSAGE OU DE RODAGE
37Machines ou dispositifs de rodage; Accessoires
04conçus pour travailler les surfaces planes
B24D 3/26 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24MEULAGE; POLISSAGE
DOUTILS POUR MEULER, POLIR OU AFFILER
3Propriétés physiques des corps ou feuilles abrasives, p.ex. surfaces abrasives de nature particulière; Corps ou feuilles abrasives caractérisés par leurs constituants
02les constituants étant utilisés comme agglomérants
20et étant essentiellement organiques
22en caoutchouc
26à structure poreuse ou alvéolaire
B24D 3/32 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24MEULAGE; POLISSAGE
DOUTILS POUR MEULER, POLIR OU AFFILER
3Propriétés physiques des corps ou feuilles abrasives, p.ex. surfaces abrasives de nature particulière; Corps ou feuilles abrasives caractérisés par leurs constituants
02les constituants étant utilisés comme agglomérants
20et étant essentiellement organiques
28en résines
32à structure poreuse ou alvéolaire
B24D 13/14 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24MEULAGE; POLISSAGE
DOUTILS POUR MEULER, POLIR OU AFFILER
13Meules dont le corps comporte des parties flexibles au travail, p.ex. meules souples de polissage; Accessoires pour le montage de ces meules
14travaillant par leur face frontale
CPC
B24B 37/24
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING
37Lapping machines or devices; Accessories
11Lapping tools
20Lapping pads for working plane surfaces
24characterised by the composition or properties of the pad materials
B24D 3/26
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING, OR SHARPENING
3Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
02the constituent being used as bonding agent
20and being essentially organic
22Rubbers ; synthetic or natural
26for porous or cellular structure
B24D 3/32
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING, OR SHARPENING
3Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
02the constituent being used as bonding agent
20and being essentially organic
28Resins ; or natural or synthetic macromolecular compounds
32for porous or cellular structure
Y10T 428/24273
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
428Stock material or miscellaneous articles
24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
24273including aperture
Y10T 428/24355
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
428Stock material or miscellaneous articles
24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
24355Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
Y10T 428/24446
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
428Stock material or miscellaneous articles
24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
24355Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
24446Wrinkled, creased, crinkled or creped
Déposants
  • CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION [US/US]; 870 North Commons Drive Aurora, IL 60504, US
Inventeurs
  • PRASAD, Abaneshwar; US
Mandataires
  • TURNER-BRIM, Phyllis, T.; Associate General Counsel, Intellectual Property Cabot Microelectronics Corporation 870 North Commons Drive Aurora, IL 60504 , US
Données relatives à la priorité
10/463,73017.06.2003US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) POLISHING PAD WITH ORIENTED PORE STRUCTURE
(FR) TAMPON DE POLISSAGE PRESENTANT UNE STRUCTURE A PORES ORIENTES
Abrégé
(EN)
The invention provides a polishing pad for chemical-mechanical polishing comprising a body, a polishing surface, and a plurality of elongated pores, wherein 10% or more of the elongated pores have an aspect ratio of 2:1 or greater and are substantially oriented in a direction that is coplanar with the polishing surface. The invention further provides a method of polishing a substrate.
(FR)
L'invention concerne un tampon de polissage pour un polissage chimique et mécanique. Ce tampon de polissage comprend un corps, une surface de polissage, et une pluralité de pores allongés, au moins 10 % de ces pores allongés présentant un rapport hauteur/largeur supérieur égal à 2:1, et sont sensiblement orientés dans une direction coplanaire à la surface de polissage. L'invention concerne également une méthode de polissage d'un substrat.
Également publié en tant que
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international