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1. WO2004102233 - ELEMENT OPTIQUE DE DIFFRACTION ET OBJECTIF DE PROJECTION COMPORTANT UN TEL ELEMENT

Numéro de publication WO/2004/102233
Date de publication 25.11.2004
N° de la demande internationale PCT/EP2004/004637
Date du dépôt international 03.05.2004
CIB
G02B 5/18 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
18Grilles de diffraction
G02B 27/44 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
27Systèmes ou appareils optiques non prévus dans aucun des groupes G02B1/-G02B26/117
42Optique de diffraction
44Systèmes à réseaux; Réseaux zonés
CPC
G02B 27/4205
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
42Diffraction optics ; , i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
4205having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant
G02B 27/4277
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
42Diffraction optics ; , i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
4272having plural diffractive elements positioned sequentially along the optical path
4277being separated by an air space
G02B 5/1838
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
18Diffraction gratings
1838for use with ultraviolet radiation or X-rays
G02B 5/1842
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
18Diffraction gratings
1842Gratings for image generation
G03F 7/70316
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70316Details of optical elements, e.g. of Bragg reflectors or diffractive optical elements
Déposants
  • CARL-ZEISS-STIFTUNG TRADING AS CARL ZEISS [DE]/[DE] (AE, AG, AL, AM, AU, AZ, BA, BB, BF, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CZ, DM, DZ, EC, EG, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GW, HR, ID, IE, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LV, MA, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NA, NE, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, RU, SC, SD, SG, SL, SN, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW)
  • CARL ZEISS [DE]/[DE] (AT, BE, BG, CH, CY, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GR, HU, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
  • KLEEMANN, Bernd [DE]/[DE] (UsOnly)
Inventeurs
  • KLEEMANN, Bernd
Mandataires
  • OSTERTAG & PARTNER
Données relatives à la priorité
103 22 238.317.05.2003DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) DIFFRAKTIVES OPTISCHES ELEMENT SOWIE PROJEKTIONSOBJEKTIV MIT EINEM SOLCHEN ELEMENT
(EN) DIFFRACTION ELEMENT AND PROJECTION OBJECTIVE COMPRISING SUCH AN ELEMENT
(FR) ELEMENT OPTIQUE DE DIFFRACTION ET OBJECTIF DE PROJECTION COMPORTANT UN TEL ELEMENT
Abrégé
(DE)
Ein diffraktives optisches Element hat einen Träger (14) und mehrere darauf aufgebrachte Beugungsstrukturen (16; 216), die durch Aufteilung in Unterstrukturen (181, 182, 183, 184) binär geblazet sind, so dass das Aspektverhältnis der Unterstrukturen (181, 182, 183, 184) innerhalb einer einzelnen Beugungsstruktur lokal variiert. Innerhalb einer einzelnen Beugungsstruktur (16; 216) sind eine oder mehrere Unterstrukturen (185, 186, 187) mit grossem Aspektverhältnis durch wenigstens eine Ersatzstruktur (20; 20a; 20b; 120; 220) ersetzt, deren Aspektverhältnis kleiner als das der ersetzten Unterstrukturen (185, 186, 187) ist. Das diffraktive optische Gitter (10; 100; 200) zeichnet sich durch eine hohe Beugungseffizienz aus und hat keine schwer herstellbaren Unterstrukturen mit grossem Aspektverhältnis.
(EN)
The invention relates to a diffraction element which comprises a carrier (14) and a plurality of diffractive structures (16; 216) disposed thereon that are binary blazed by a subdivision into substructures (181, 182, 183, 184) so that the aspect ratio of the substructures (181, 182, 183, 184) locally varies within an individual diffractive structure. Within an individual diffractive structure (16; 216) one or more high aspect ratio substructures (185, 186, 187) are replaced by at least one substituent structure (20; 20a; 20b; 120; 220) whose aspect ratio is smaller than that of the replaced substructures (185, 186, 187). The diffraction grating (10; 100; 200) is characterized by a high diffraction efficiency and comprises no high aspect ratio substructures that are difficult to produce.
(FR)
L'invention concerne un élément optique de diffraction comportant un support (14) et plusieurs structures de diffraction (16 ; 216) disposées sur ledit support, miroitées de façon binaire par répartition en sous-structures (181, 182, 183, 184), de telle manière que le facteur de forme des sous-structures (181, 182, 183, 184) varie localement au sein d'une structure de diffraction individuelle. Dans une structure de diffraction individuelle (16 ; 216), une ou plusieurs sous-structures (185, 186, 187) présentant un facteur de forme élevé sont remplacées par au moins une structure de remplacement (20 ; 20a ; 20b ; 120 ; 220) dont le facteur de forme est inférieur à celui des sous-structures (185, 186, 187). La grille optique de diffraction (10 ; 100 ; 200) est caractérisée par un rendement de diffraction élevé et ne comporte pas de sous-structures difficiles à fabriquer, présentant un facteur de forme élevé.
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