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1. WO2004100621 - PROCEDE ET DISPOSITIF DE GENERATION DE PLASMA LASER

Numéro de publication WO/2004/100621
Date de publication 18.11.2004
N° de la demande internationale PCT/JP2004/004031
Date du dépôt international 24.03.2004
CIB
G21K 5/02 2006.01
GPHYSIQUE
21PHYSIQUE NUCLÉAIRE; TECHNIQUE NUCLÉAIRE
KTECHNIQUES NON PRÉVUES AILLEURS POUR MANIPULER DES PARTICULES OU DES RAYONNEMENTS IONISANTS; DISPOSITIFS D'IRRADIATION; MICROSCOPES À RAYONS GAMMA OU À RAYONS X
5Dispositifs d'irradiation
02n'ayant aucun moyen pour former le faisceau
G21K 5/08 2006.01
GPHYSIQUE
21PHYSIQUE NUCLÉAIRE; TECHNIQUE NUCLÉAIRE
KTECHNIQUES NON PRÉVUES AILLEURS POUR MANIPULER DES PARTICULES OU DES RAYONNEMENTS IONISANTS; DISPOSITIFS D'IRRADIATION; MICROSCOPES À RAYONS GAMMA OU À RAYONS X
5Dispositifs d'irradiation
08Supports pour cibles ou pour objets à irradier
H01L 21/027 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
H01S 3/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
SDISPOSITIFS UTILISANT LE PROCÉDÉ D'AMPLIFICATION DE LA LUMIÈRE PAR ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT POUR AMPLIFIER OU GÉNÉRER DE LA LUMIÈRE; DISPOSITIFS UTILISANT L’ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT ÉLECTROMAGNÉTIQUE DANS DES GAMMES D’ONDES AUTRES QU'OPTIQUES
3Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, le visible ou l’ultraviolet
H05G 1/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
GTECHNIQUE DES RAYONS X
1Appareils à rayons X utilisant des tubes à rayons X; Circuits pour ces appareils
H05G 2/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
GTECHNIQUE DES RAYONS X
2Appareils ou procédés spécialement adaptés à la production de rayons X, n'utilisant pas de tubes à rayons X, p.ex. utilisant la génération d'un plasma
CPC
H05G 2/003
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
003being produced from a liquid or gas
H05G 2/005
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
003being produced from a liquid or gas
005containing a metal as principal radiation generating component
Déposants
  • 独立行政法人産業技術総合研究所 NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 富江 敏尚 TOMIE, Toshihisa [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • 富江 敏尚 TOMIE, Toshihisa
Données relatives à la priorité
2003-08037824.03.2003JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) LASER PLASMA PRODUCING METHOD AND DEVICE
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE GENERATION DE PLASMA LASER
(JA) レーザープラズマ発生方法及び装置
Abrégé
(EN)
A method for supplying a solid material with a sufficiently high density to a place sufficiently far from the surrounding solid bodies without dispersing debris into the environment. Radiation is generated from a plasma produced by applying a laser beam to a substance. The substance is a particle cluster formed of many fine coagulated particles. The coagulant is a material vaporizing below the melting point of the fine particles. To supply a particle cluster (8) of a heightened particle concentration to a vacuum vessel (9) for plasma production, a droplet (5) is heated by a laser beam (6) to evaporate a solvent (7). Thus by supplying a particle cluster (8) to the vacuum vessel (9) after evaporating a large amount of solvent used for stably forming a droplet, the degradation of the degree of the vacuum vessel (9) can be suppressed. The diameter of the particle cluster (8) is tens of micrometers after the condensation.
(FR)
Procédé servant à alimenter en matériau solide présentant une densité suffisamment élevée un emplacement suffisamment éloigné des corps solides environnants sans disperser les débris dans l'environnement. Un rayonnement est généré à partir d'un plasma produit par application d'un faisceau laser à une substance. Cette substance consiste en un amas de particules constitué par un grand nombre de fines particules coagulées. Le coagulant est constitué par un matériau se vaporisant à un niveau inférieur au point de fusion de ces fines particules. Dans le but d'introduire dans une cuve sous vide (9) servant à produire du plasma un amas de particules (8) présentant une concentration de particules accrue, on réchauffe une gouttelette (5) au moyen d'un faisceau laser (6) afin de provoquer l'évaporation d'un solvant (7). L'introduction dans la cuve sous vide (9) d'un amas de particules (8) après évaporation d'une quantité importante du solvant utilisé pour constituer une gouttelette stable, permet de supprimer la dégradation du degré de la cuve sous vide (9). Le diamètre de l'amas de particules (8) et égal à des dixièmes de microns après condensation.
(JA)
 本発明は、周囲の固体から十分に離れた場所に、十分に高い密度で、デブリを環境にまき散らさないで、固体材料を供給する手法を提供する。本発明は、レーザーを物質に照射して得られるプラズマから輻射線を発生させる。この物質は、多数の超微粒子が凝集した粒子集合体であり、超微粒子の融点以下で気化する材料を凝集剤としている。微粒子濃度を高めた微粒子集合体8を、プラズマ発生用真空容器9に供給するために、レーザー6で液滴5を加熱し、溶媒7を蒸発させる。液滴を安定に生成するための大量の溶媒を予め蒸発させた上でプラズマ発生用真空容器9に供給することで、真空容器9の真空度の低下が抑制できる。高濃縮化後の微粒子集合体8の直径は数十μmになる。
Également publié en tant que
US2007158577
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