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1. WO2004100241 - APPAREIL DE LAVAGE, SYSTEME ET PROCEDE ASSOCIES

Numéro de publication WO/2004/100241
Date de publication 18.11.2004
N° de la demande internationale PCT/JP2004/004940
Date du dépôt international 06.04.2004
CIB
B08B 3/02 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08NETTOYAGE
BNETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
3Nettoyage par des procédés impliquant l'utilisation ou la présence d'un liquide ou de vapeur d'eau
02Nettoyage par la force de jets ou de pulvérisations
H01L 21/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
CPC
B08B 3/022
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
08CLEANING
BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
3Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
02Cleaning by the force of jets or sprays
022Cleaning travelling work
H01L 21/67051
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67011Apparatus for manufacture or treatment
67017Apparatus for fluid treatment
67028for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
6704for wet cleaning or washing
67051using mainly spraying means, e.g. nozzles
Déposants
  • SHIN-ETSU HANDOTAI CO. LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 大瀬 広樹 OSE, Hiroki [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 横田 修二 YOKOTA, Shuji [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • 大瀬 広樹 OSE, Hiroki
  • 横田 修二 YOKOTA, Shuji
Mandataires
  • 石原 詔二 ISHIHARA, Shoji
Données relatives à la priorité
2003-13138609.05.2003JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) WASHING APPARATUS, WASHING SYSTEM, AND WASHING METHOD
(FR) APPAREIL DE LAVAGE, SYSTEME ET PROCEDE ASSOCIES
(JA) 洗浄装置、洗浄システム及び洗浄方法
Abrégé
(EN)
A washing apparatus, a washing system, and a washing method having excellent washing capability and working efficiency and washing members used in the field of semiconductors. The washing apparatus for washing the members used in the field of semiconductors comprises an injection mechanism injecting atomized washing fluid (L1) from a plurality of nozzles (52a) to the members (T) as washed objects at a high-pressure. The washing system (30) for washing the members used in the field of semiconductors comprises a loader part (40) setting the members as the washed objects, an unloader part (70) recovering the members, and a carrying stage (80) continuously carrying the members from the loader part to the unloader part. A washing part (50) for washing the members with the atomized fluid is installed on the carrying stage so that the members can be carried by the carrying stage and washed by the washing part.
(FR)
L'invention concerne un appareil de lavage, ainsi qu'un système et un procédé associés, présentant d'excellentes capacités de lavage et une efficacité élevée, destinés au lavage d'éléments utilisés dans le domaine des semi-conducteurs. L'appareil de lavage permettant de laver les éléments utilisés dans le domaine des semi-conducteurs comprend un mécanisme d'injection qui injecte un liquide de lavage atomisé (L1) à haute pression depuis une pluralité de buses (52a) sur lesdits éléments (T) désignés objets à laver. Le système de lavage (30) de l'invention permettant de laver les éléments utilisés dans le domaine des semi-conducteurs comprend une station de charge (40) permettant d'installer lesdits éléments désignés objets à laver, une station de décharge (70) permettant de récupérer les éléments, et un étage de transport (80) permettant de transporter en continu les éléments de la station de charge à la station de décharge. Une station de lavage (50) permettant de laver les éléments au moyen du liquide atomisé est installée sur l'étage de transport de façon que les éléments soient transportés par ce dernier et lavés par ladite station de lavage.
(JA)
not available
Également publié en tant que
US2006281326
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