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1. (WO2004099877) DISPOSITIF DE MESURE OPTIQUE ET PROCEDE POUR FAIRE FONCTIONNER UN SYSTEME DE REPRODUCTION OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/099877    N° de la demande internationale :    PCT/EP2003/004932
Date de publication : 18.11.2004 Date de dépôt international : 12.05.2003
CIB :
G01M 11/02 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22, 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
EMER, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WEGMANN, Ulrich [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SCHRIEVER, Martin [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HOCH, Rainer [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : EMER, Wolfgang; (DE).
WEGMANN, Ulrich; (DE).
SCHRIEVER, Martin; (DE).
HOCH, Rainer; (DE)
Mandataire : RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER & PARTNER; Kronenstrasse 30, 70174 Stuttgart (DE)
Données relatives à la priorité :
Titre (DE) OPTISCHE MESSVORRICHTUNG UND BETRIEBSVERFAHREN FÜR EIN OPTISCHES ABBILDUNGSSYSTEM
(EN) OPTICAL MEASURING DEVICE AND OPERATING METHOD FOR AN OPTICAL IMAGING SYSTEM
(FR) DISPOSITIF DE MESURE OPTIQUE ET PROCEDE POUR FAIRE FONCTIONNER UN SYSTEME DE REPRODUCTION OPTIQUE
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung bezieht sich auf eine Messvorrichtung zur optischen, z.B. interferometrischen, Vermessung eines optischen Abbildungssystems (1), das zur Abbildung eines Nutzmusters vorgesehen ist, mit Mitteln (2, 5) zur Erzeugung von abbildungsfehlerindikativer Interferenzinformation Strahlungsinformation, mit z.B. Interferenzinformation, mit Maskenstrukturmitteln, die ein Messmuster (6) beinhalten, und mit Detektions- und Auswertemitteln (10) zur Erfassung und Auswertung der abbildungsfehlerindikativen Interferenzinformation sowie auf eine Vorrichtung zum abbildungsfehlerkorrektiven Betrieb des optischen Abbildungssystems. Erfindungsgemäß weisen die Maskenstrukturmittel (5) zusätzlich zum Messmuster (6) ein objektseitiges Aufheizbestrahlungsmuster (7) auf, das so gewählt ist, dass die Aufheizwirkung der von ihm durchgelassenen Strahlung für das zu vermessende optische Abbildungssystem innerhalb eines vorgebbaren Toleranzbereichs der Aufheizwirkung der Strahlung entspricht, die im Betrieb des optischen Abbildungssystems vom Nutzmuster durchgelassen wird. Die dadurch gewonnene abbildungsfehlerindikative Interferenzinformation Strahlungsinformation kann anschließend zur abbildungsfehlerkorrektiven Steuerung oder Regelung des optischen Abbildungssystems beim Abbilden des Nutzmusters herangezogen werden. Verwendung z.B. für Projektionsobjektive in Mikrolithographieanlagen zur Waferbelichtung.
(EN)The invention relates to a measuring device for the optical, e.g. interferometric measurement of an optical imaging system (1), designed to reproduce a useful pattern. Said device comprises means (2, 5) for generating irradiation information that identifies aberrations, e.g. interference information, mask structuring means comprising a measuring pattern (6) and detection and evaluation means (10) for recording and evaluating the interference information that identifies aberrations. The invention also relates to a device for operating said optical imaging system and for correcting aberrations. According to the invention, in addition to the measuring pattern (6), the mask structuring means (5) has a heating irradiation pattern (7) on the object side, which is selected in such a way that the heating action of the irradiation that is transmitted by said pattern for the optical imaging imaging system corresponds, within predefined tolerances, to the heating action of the irradiation that is transmitted by the useful pattern during the operation of said optical imaging system. The irradiation information thus obtained that identifies aberrations can then be used to control or regulate the optical imaging system in order to correct aberrations during the reproduction of the useful pattern. The inventive device can be used, e.g. for projection lenses in microlithography systems designed to expose silicon wafers.
(FR)L'invention concerne un dispositif de mesure servant à la mesure optique, par exemple interférométrique, d'un système de reproduction optique (1) servant à reproduire un modèle utile. Le dispositif de mesure selon l'invention comprend des moyens (2, 5) servant à générer des informations de rayonnement indicatrices d'erreurs de reproduction, par exemple des informations d'interférence, des moyens de structure à masque qui contiennent un modèle de mesure (6), ainsi que des moyens de détection et d'évaluation (10) servant à détecter et à évaluer les informations d'interférence indicatrices d'erreurs de reproduction. L'invention concerne également un dispositif pour faire fonctionner le système de reproduction optique selon l'invention en corrigeant les erreurs de reproduction. Selon l'invention, les moyens de structure à masque (5) présentent, en plus du modèle de mesure (6), un modèle d'irradiation de chauffage (7) côté objet, qui est sélectionné de sorte que l'effet chauffant de l'irradiation transmise par ce modèle pour le système de reproduction optique à mesurer correspond, à l'intérieur d'une plage de tolérance prédéfinissable, à l'effet chauffant du rayonnement que le modèle utile laisse traverser lors du fonctionnement du système de reproduction optique. Les informations de rayonnement indicatrices d'erreurs de reproduction ainsi obtenues peuvent ensuite être utilisées pour commander ou réguler, en corrigeant les erreurs de reproduction, le système de reproduction optique lors de la reproduction du modèle utile. Le dispositif selon l'invention peut, par exemple, être utilisé pour des objectifs de projection dans des installations de microlithographie servant à l'exposition de tranches de silicium.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)