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1. WO2004095065 - SEL DE LITHIUM DE POLYACETYLENE SERVANT DE FILAMENTS SENSIBLES AUX RAYONNEMENTS, PREPARATION ET UTILISATION DE CELUI-CI

Numéro de publication WO/2004/095065
Date de publication 04.11.2004
N° de la demande internationale PCT/US2004/007273
Date du dépôt international 10.03.2004
CIB
G03C 1/76 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
CMATÉRIAUX PHOTOSENSIBLES POUR LA PHOTOGRAPHIE; PROCÉDÉS PHOTOGRAPHIQUES, p.ex. PROCÉDÉS CINÉMATOGRAPHIQUES, AUX RAYONS X, EN COULEURS OU STÉRÉOPHOTOGRAPHIQUES; PROCÉDÉS AUXILIAIRES EN PHOTOGRAPHIE
1Matériaux photosensibles
76Matériaux photosensibles caractérisés par le support ou les couches auxiliaires
CPC
G03F 7/025
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
025Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon triple bonds, e.g. acetylenic compounds
G03F 7/029
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
028with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
Déposants
  • ISP INVESTMENTS INC. [US]/[US] (AllExceptUS)
Inventeurs
  • ANYUMBA, Janette
  • LEWIS, David, F.
  • SHIH, Hsiao-Yi
  • YU, Xiang
Mandataires
  • MAUE, Marilyn, J.
Données relatives à la priorité
10/789,00727.02.2004US
60/459,55901.04.2003US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) LITHIUM SALT OF POLYACETYLENE AS RADIATION SENSITIVE FILAMENTS AND PREPARATION AND USE THEREOF
(FR) SEL DE LITHIUM DE POLYACETYLENE SERVANT DE FILAMENTS SENSIBLES AUX RAYONNEMENTS, PREPARATION ET UTILISATION DE CELUI-CI
Abrégé
(EN)
This invention relates to photochromic filaments composed of the lithium salt of a conjugated, polymerizable polyacetylene having a carboxylic acid or carboxylate terminal group wherein the length to width ratio of said filaments is between about 5000:1 and about 5:1 and the average length of the filament is up to about 5cm. The invention also pertains to the use of said salts in maximized radiation sensitivity for imaging, radiation dose measurement or mapping and detection of radiation fields.
(FR)
La présente invention concerne des filaments photochromes composés d'un sel de lithium d'un polyacétylène polymérisable conjugué qui présente un acide carboxylique ou un groupe terminal carboxylate, le rapport longueur sur largeur desdits filaments étant situé entre environ 5000:1 et environ 5:1 et la longueur moyenne de filament s'élevant jusqu'à environ 5 cm. La présente invention concerne également l'utilisation de ces sels avec une sensibilité maximale aux rayonnements dans le cadre d'une imagerie, d'une mesure de dose de rayonnement ou d'une cartographie et d'une détection de champs de rayonnement.
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